形成光刻用防反射膜的组合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN02816299.4

申请日：

2002-08-13

公开(公告)号：

CN100362430C

公开(公告)日：

2004-11-10

发明(设计)人：

荒濑慎哉岸冈高广水泽贤一

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G03F711

IPC分类号：

代理机构：

北京市中咨律师事务所

代理人：

段承恩;陈海红

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2004-11-10	公开	公开
2005-01-12	实质审查的生效	实质审查的生效
2008-01-16	授权	授权

共 50 条

[1]

形成光刻用防反射膜的组合物 [P].

竹井敏 ;

安见由章 ;

水泽贤一 .

中国专利 :CN1564968A ,2005-01-12

[2]

形成光刻用防反射膜的组合物 [P].

岸冈高广 ;

荒濑慎哉 ;

水泽贤一 .

中国专利 :CN1502062A ,2004-06-02

[3]

光刻用形成防反射膜的组合物 [P].

岸冈高广 ;

水沢贤一 ;

榎本智之 ;

坂本力丸 ;

中山圭介 ;

河村保夫 .

中国专利 :CN1723418A ,2006-01-18

[4]

形成防反射膜的组合物 [P].

岸冈高广 ;

荒濑慎哉 ;

水沢贤一 ;

中山圭介 .

中国专利 :CN100514188C ,2005-09-14

[5]

含磺酸酯的形成光刻用防反射膜的组合物 [P].

岸冈高广 ;

畑中真 ;

木村茂雄 .

中国专利 :CN101052919A ,2007-10-10

[6]

形成防反射膜的组合物 [P].

坂本力丸 ;

水泽贤一 .

中国专利 :CN1636166A ,2005-07-06

[7]

含有硫原子的形成光刻用防反射膜的组合物 [P].

榎本智之 ;

广井佳臣 ;

中山圭介 .

中国专利 :CN101040220A ,2007-09-19

[8]

防反射膜形成用涂料组合物及形成有防反射膜的物品 [P].

米田贵重 ;

河合洋平 .

中国专利 :CN101523242A ,2009-09-02

[9]

防反射膜形成用组合物、以及使用该组合物的光刻胶图案形成方法 [P].

泽野敦 ;

越山淳 ;

广崎贵子 .

中国专利 :CN101681112B ,2010-03-24

[10]

防反射膜形成用组合物、以及使用该组合物的光刻胶图案形成方法 [P].

泽野敦 ;

越山淳 ;

广崎贵子 .

中国专利 :CN101681113A ,2010-03-24

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