防反射膜形成用组合物、以及使用该组合物的光刻胶图案形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200880015584.2

申请日：

2008-05-16

公开(公告)号：

CN101681112B

公开(公告)日：

2010-03-24

发明(设计)人：

泽野敦越山淳广崎贵子

申请人：

申请人地址：

日本神奈川县

IPC主分类号：

G03F711

IPC分类号：

G03F7004 H01L21027

代理机构：

广州三环专利代理有限公司 44202

代理人：

郝传鑫

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-05-30	授权	授权
2010-03-24	公开	公开
2010-05-05	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101001461117 IPC(主分类):G03F 7/11 专利申请号:2008800155842 申请日:20080516

共 50 条

[1]

防反射膜形成用组合物、以及使用该组合物的光刻胶图案形成方法 [P].

泽野敦 ;

越山淳 ;

广崎贵子 .

中国专利 :CN101681113A ,2010-03-24

[2]

用于形成防反射膜的涂布液组合物、光刻胶层合体以及光刻胶图案的形成方法 [P].

胁屋和正 ;

久保田尚孝 ;

横井滋 ;

原口高之 .

中国专利 :CN1460894A ,2003-12-10

[3]

光刻胶组合物以及使用该组合物的金属图案的形成方法 [P].

金贞元 ;

朴光雨 ;

周振豪 ;

郑炳和 ;

金京浩 ;

金东敏 ;

金奉珍 ;

金昇起 .

中国专利 :CN107728426A ,2018-02-23

[4]

光刻用清洁组合物以及采用该组合物形成光刻胶图案的方法 [P].

李昇勋 ;

李昇炫 ;

尹相雄 ;

咸庆国 .

中国专利 :CN106353976A ,2017-01-25

[5]

光刻用清洁组合物以及采用该组合物形成光刻胶图案的方法 [P].

李昇勋 ;

李昇炫 ;

尹相雄 ;

咸庆国 .

中国专利 :CN111505913A ,2020-08-07

[6]

防反射涂层用组合物及使用该组合物的图案形成方法 [P].

松尾二郎 ;

高野圣史 ;

高野祐辅 ;

秋山靖 .

中国专利 :CN100587600C ,2010-02-03

[7]

半导体光刻胶组合物以及使用组合物形成图案的方法 [P].

林秀斌 ;

金铃根 ;

姜恩美 ;

林雪熙 .

韩国专利 :CN118795724A ,2024-10-18

[8]

半导体光刻胶组合物以及使用组合物形成图案的方法 [P].

柳东完 ;

金铃根 ;

林雪熙 ;

林秀斌 ;

姜锡一 .

韩国专利 :CN118795725A ,2024-10-18

[9]

I线光刻胶组合物以及使用该组合物形成精细图案的方法 [P].

李正烈 ;

张有珍 ;

李载禹 ;

金宰贤 .

中国专利 :CN103988128A ,2014-08-13

[10]

光刻用形成防反射膜的组合物 [P].

岸冈高广 ;

水沢贤一 ;

榎本智之 ;

坂本力丸 ;

中山圭介 ;

河村保夫 .

中国专利 :CN1723418A ,2006-01-18

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