防反射涂层用组合物及使用该组合物的图案形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200580021579.9

申请日：

2005-06-29

公开(公告)号：

CN100587600C

公开(公告)日：

2010-02-03

发明(设计)人：

松尾二郎高野圣史高野祐辅秋山靖

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G03F711

IPC分类号：

H01L21027

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所

代理人：

刘新宇

法律状态：

专利申请权、专利权的转移

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-07-18	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101425936585 IPC(主分类):G03F 7/11 专利号:ZL2005800215799 变更事项:专利权人变更前权利人:大日本油墨化学工业株式会社变更后权利人:DIC株式会社变更事项:地址变更前权利人:日本东京都变更后权利人:日本东京都变更事项:共同专利权人变更前权利人:日本AZ电子材料株式会社变更后权利人:AZ电子材料IP(日本)株式会社登记生效日:20120625
2016-08-17	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101675751852 IPC(主分类):G03F 7/11 专利号:ZL2005800215799 申请日:20050629 授权公告日:20100203 终止日期:20150629
2010-02-03	授权	授权
2007-10-31	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

防反射膜形成用组合物、以及使用该组合物的光刻胶图案形成方法 [P].

泽野敦 ;

越山淳 ;

广崎贵子 .

中国专利 :CN101681112B ,2010-03-24

[2]

防反射膜形成用组合物、以及使用该组合物的光刻胶图案形成方法 [P].

泽野敦 ;

越山淳 ;

广崎贵子 .

中国专利 :CN101681113A ,2010-03-24

[3]

用于形成顶层抗反射膜的组合物以及使用该组合物的图案形成方法 [P].

秋山靖 ;

能谷刚 ;

仓本胜利 ;

高野祐辅 .

中国专利 :CN101849209A ,2010-09-29

[4]

防反射膜形成用组合物及使用其的配线形成方法 [P].

田中健 ;

坂本好谦 ;

高滨昌 .

中国专利 :CN101010635A ,2007-08-01

[5]

顶部涂层组合物及使用该组合物形成精细图案的方法 [P].

郑载昌 ;

孔根圭 ;

金炯秀 ;

金珍秀 ;

高次元 ;

洪圣恩 ;

李根守 ;

郑旼镐 ;

白基镐 .

中国专利 :CN1215375C ,2000-12-13

[6]

用于形成抗反射膜的组合物以及使用该组合物的图案形成方法 [P].

能谷刚 ;

秋山靖 ;

高野祐辅 .

中国专利 :CN101910946B ,2010-12-08

[7]

抗反射涂层组合物 [P].

高野祐辅 ;

田中初幸 ;

高野圣史 ;

桥本丰 .

中国专利 :CN1272864A ,2000-11-08

[8]

防反射涂覆用组合物 [P].

音泽信行 .

中国专利 :CN101617273B ,2009-12-30

[9]

形成防反射膜的组合物 [P].

岸冈高广 ;

荒濑慎哉 ;

水沢贤一 ;

中山圭介 .

中国专利 :CN100514188C ,2005-09-14

[10]

有机抗反射涂层组合物和用该组合物形成光阻图案的方法 [P].

郑载昌 ;

申起秀 .

中国专利 :CN1237399C ,2004-01-21

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