层合的色彩形成组成物

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201280057797.8
申请日
2012-12-12
公开(公告)号
CN103958624A
公开(公告)日
2014-07-30
发明(设计)人
拉迪斯拉夫·赫德拉雷克 马库斯·雷贝格尔 安东尼·贾维斯 克莉丝·威雷斯
申请人
申请人地址
瑞士普利
IPC主分类号
C09D11037
IPC分类号
C09D1150 B41M500
代理机构
上海胜康律师事务所 31263
代理人
李献忠
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体光刻胶组成物和使用该组成物形成图案的方法 [P]. 
张水民 ;
林秀斌 ;
蔡闰珠 ;
韩俊熙 ;
李贤 ;
金智敏 ;
金经睦 ;
柳东完 ;
千玟基 .
韩国专利 :CN121232523A ,2025-12-30
[2]
半导体光刻胶组成物和使用该组成物形成图案的方法 [P]. 
林秀斌 ;
金铃根 ;
金旻惠 ;
姜锡一 ;
柳东完 .
韩国专利 :CN120686537A ,2025-09-23
[3]
半导体光刻胶组成物和使用该组成物形成图案的方法 [P]. 
成太根 ;
林雪熙 ;
张水民 ;
辛乘旭 ;
徐也隐 ;
李忠宪 .
韩国专利 :CN120540004A ,2025-08-26
[4]
半导体光刻胶组成物和利用该组成物形成图案的方法 [P]. 
徐也隐 ;
姜恩美 ;
金智敏 ;
成太根 ;
辛乘旭 ;
李旻映 ;
李忠宪 ;
张水民 ;
韩美莲 .
韩国专利 :CN120630588A ,2025-09-12
[5]
半导体光刻胶组成物及使用该组成物形成图案的方法 [P]. 
任相均 ;
金铃根 ;
文成日 ;
司空峻 .
韩国专利 :CN121232525A ,2025-12-30
[6]
半导体光刻胶组成物和使用该组成物形成图案的方法 [P]. 
金铃根 .
韩国专利 :CN120491387A ,2025-08-15
[7]
半导体装置的形成方法及光阻剂组成物 [P]. 
訾安仁 ;
郭彦佑 ;
张庆裕 ;
林进祥 .
中国专利 :CN118782461A ,2024-10-15
[8]
偏光层形成组合物 [P]. 
伊藤潤 ;
菅野裕太 ;
稻見佳代 ;
畑中真 .
中国专利 :CN109153857A ,2019-01-04
[9]
有机层组成物及图案形成方法 [P]. 
南沇希 ;
姜善惠 ;
金瑆焕 ;
郑瑟基 ;
金旼秀 ;
文秀贤 .
中国专利 :CN109478015B ,2019-03-15
[10]
单体、聚合物、有机层组成物、有机层及形成图案的方法 [P]. 
南沇希 ;
权孝英 ;
金瑆焕 ;
金昇炫 ;
南宫烂 ;
豆米尼阿·拉特维 ;
文秀贤 ;
郑瑟基 ;
郑铉日 ;
许柳美 .
中国专利 :CN105622364B ,2016-06-01