层合的色彩形成组成物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201280057797.8

申请日：

2012-12-12

公开(公告)号：

CN103958624A

公开(公告)日：

2014-07-30

发明(设计)人：

拉迪斯拉夫·赫德拉雷克马库斯·雷贝格尔安东尼·贾维斯克莉丝·威雷斯

申请人：

申请人地址：

瑞士普利

IPC主分类号：

C09D11037

IPC分类号：

C09D1150 B41M500

代理机构：

上海胜康律师事务所 31263

代理人：

李献忠

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-02-04	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101596548568 IPC(主分类):C09D 11/037 专利申请号:2012800577978 申请日:20121212
2014-07-30	公开	公开

共 50 条

[21]

半导体光致抗蚀剂组成物及使用其形成图案的方法 [P].

文京守 ;

姜恩美 ;

金宰贤 ;

金智敏 ;

金兑镐 ;

禹昌秀 ;

田桓承 ;

蔡承龙 ;

韩承 .

中国专利 :CN115668056A ,2023-01-31

[22]

抗蚀剂组成物、叠层体、及图案形成方法 [P].

大桥正树 ;

半田龙之介 ;

菊地骏 ;

草间理志 ;

大山皓介 .

日本专利 :CN120652737A ,2025-09-16

[23]

抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P].

大友雄太郎 ;

小林知洋 .

日本专利 :CN117539126A ,2024-02-09

[24]

n型扩散层形成组合物、n型扩散层的形成方法、带n型扩散层的半导体基板的制造方法及太阳能电池元件的制造方法 [P].

佐藤铁也 ;

吉田诚人 ;

野尻刚 ;

仓田靖 ;

芦泽寅之助 ;

町井洋一 ;

岩室光则 ;

织田明博 ;

清水麻理 ;

佐藤英一 .

中国专利 :CN105518828A ,2016-04-20

[25]

聚合物、有机层组成物及图案形成方法 [P].

豆米尼阿·拉特维 ;

郑铉日 ;

权孝英 ;

南宫烂 ;

南沇希 ;

文秀贤 ;

宋炫知 ;

许柳美 .

中国专利 :CN108291013B ,2018-07-17

[26]

含金属的膜形成用组成物、图案形成方法 [P].

小林直贵 ;

石绵健汰 ;

郡大佑 ;

长町伸宏 .

日本专利 :CN119781245A ,2025-04-08

[27]

有机膜形成用组成物用聚合物及其制造方法、以及使用该聚合物的有机膜形成用组成物、使用该组成物的有机膜形成方法及图案形成方法 [P].

泽村昂志 ;

今多智大 ;

松原聪志 .

日本专利 :CN121203139A ,2025-12-26

[28]

防污涂料组成物及形成该组成物涂层的方法 [P].

邓拔龙 ;

蒋永新 ;

叶茂荣 ;

张俊雄 .

中国专利 :CN1279126C ,2005-01-19

[29]

电极形成组成物和利用该组成物制造的等离子体显示面板 [P].

金哲弘 ;

郑贤美 .

中国专利 :CN101145486B ,2008-03-19

[30]

介电薄膜形成组合物，形成介电薄膜的方法和由该方法所形成的介电薄膜 [P].

G.古伊甘 ;

渡边敏昭 ;

曾山信幸 ;

樱井英章 .

中国专利 :CN102436866A ,2012-05-02

← 1 2 3 4 5 →