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一种高电阻率碳化硅陶瓷及其制备方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201410364075.8
申请日
:
2014-07-29
公开(公告)号
:
CN104098335A
公开(公告)日
:
2014-10-15
发明(设计)人
:
黄政仁
梁汉琴
刘学建
姚秀敏
申请人
:
申请人地址
:
200050 上海市长宁区定西路1295号
IPC主分类号
:
C04B35565
IPC分类号
:
C04B35622
代理机构
:
上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261
代理人
:
曹芳玲;郑优丽
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2014-11-12
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101588366451 IPC(主分类):C04B 35/565 专利申请号:2014103640758 申请日:20140729
2014-10-15
公开
公开
2016-01-06
授权
授权
共 50 条
[1]
一种高电阻率碳化硅陶瓷及其制备方法
[P].
夏云
论文数:
0
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0
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夏云
.
中国专利
:CN104671793A
,2015-06-03
[2]
高电阻率碳化硅
[P].
A·G·黑尔
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A·G·黑尔
;
E·A·佩里
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E·A·佩里
.
中国专利
:CN105000888B
,2015-10-28
[3]
高电阻率碳化硅
[P].
A·G·黑尔
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A·G·黑尔
;
E·A·佩里
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E·A·佩里
.
中国专利
:CN101896442B
,2010-11-24
[4]
一种低电阻率碳化硅陶瓷及其制备方法
[P].
陈健
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陈健
;
黄政仁
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黄政仁
;
刘学建
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刘学建
;
陈忠明
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陈忠明
;
姚秀敏
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姚秀敏
;
袁明
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袁明
;
刘岩
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刘岩
;
闫永杰
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闫永杰
;
朱云洲
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朱云洲
;
刘桂玲
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刘桂玲
;
张辉
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张辉
.
中国专利
:CN104478438A
,2015-04-01
[5]
一种高韧性、高电阻率碳化硅陶瓷的制备方法
[P].
杨新领
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杨新领
.
中国专利
:CN108203300B
,2018-06-26
[6]
一种高电阻率连续碳化硅纤维及其制备方法
[P].
董伯举
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董伯举
;
杜亮
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杜亮
;
马小民
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马小民
;
陆仁
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陆仁
;
张春苏
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张春苏
;
张冀
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张冀
.
中国专利
:CN105568427A
,2016-05-11
[7]
一种各向异性电阻率的碳化硅陶瓷及其制备方法、碳化硅薄片类制件
[P].
李靖晗
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机构:
北京亦盛精密半导体有限公司
北京亦盛精密半导体有限公司
李靖晗
;
张慧
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机构:
北京亦盛精密半导体有限公司
北京亦盛精密半导体有限公司
张慧
;
王力
论文数:
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机构:
北京亦盛精密半导体有限公司
北京亦盛精密半导体有限公司
王力
;
李华民
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机构:
北京亦盛精密半导体有限公司
北京亦盛精密半导体有限公司
李华民
;
包根平
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机构:
北京亦盛精密半导体有限公司
北京亦盛精密半导体有限公司
包根平
.
中国专利
:CN116854477B
,2024-05-24
[8]
一种制备高电阻率碳化硅材料的方法及碳化硅材料
[P].
刘赋灵
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机构:
湖南德智新材料股份有限公司
湖南德智新材料股份有限公司
刘赋灵
;
余盛杰
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机构:
湖南德智新材料股份有限公司
湖南德智新材料股份有限公司
余盛杰
;
廖家豪
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机构:
湖南德智新材料股份有限公司
湖南德智新材料股份有限公司
廖家豪
.
中国专利
:CN120738623B
,2025-12-12
[9]
一种制备高电阻率碳化硅材料的方法及碳化硅材料
[P].
刘赋灵
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机构:
湖南德智新材料股份有限公司
湖南德智新材料股份有限公司
刘赋灵
;
余盛杰
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机构:
湖南德智新材料股份有限公司
湖南德智新材料股份有限公司
余盛杰
;
廖家豪
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机构:
湖南德智新材料股份有限公司
湖南德智新材料股份有限公司
廖家豪
.
中国专利
:CN120738623A
,2025-10-03
[10]
一种电阻率均匀的碳化硅膜及其制备方法
[P].
崔海珍
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机构:
苏州精材半导体科技有限公司
苏州精材半导体科技有限公司
崔海珍
;
吴涛
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机构:
苏州精材半导体科技有限公司
苏州精材半导体科技有限公司
吴涛
.
中国专利
:CN118064871B
,2025-05-09
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