一种镧基高介电常数薄膜的制备方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201010556701.5
申请日
2010-11-24
公开(公告)号
CN102094190A
公开(公告)日
2011-06-15
发明(设计)人
陈琳 孙清清 王鹏飞 张卫
申请人
申请人地址
200433 上海市杨浦区邯郸路220号
IPC主分类号
C23C1652
IPC分类号
C23C1640
代理机构
上海正旦专利代理有限公司 31200
代理人
陆飞;盛志范
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
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[2]
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[3]
沉积高介电常数薄膜的设备 [P]. 
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[4]
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[5]
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[6]
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[7]
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[8]
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[9]
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张逸凡 ;
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[10]
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杜军 ;
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