图案形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201910977728.2

申请日：

2013-10-17

公开(公告)号：

CN110673447A

公开(公告)日：

2020-01-10

发明(设计)人：

山中司川本崇司

申请人：

申请人地址：

日本东京港区西麻布二丁目26番30号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G03F732 B65D8500 B65D2514

代理机构：

北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205

代理人：

马爽;臧建明

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-01-10	公开	公开
2022-12-16	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):G03F 7/20 申请公布日:20200110
2020-02-11	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20131017

共 50 条

[1]

图案形成方法 [P].

远藤政孝 ;

笹子胜 .

中国专利 :CN1574220A ,2005-02-02

[2]

图案形成方法 [P].

远藤政孝 ;

笹子胜 .

中国专利 :CN1523449A ,2004-08-25

[3]

图案形成方法 [P].

远藤政孝 ;

笹子胜 .

中国专利 :CN1828425A ,2006-09-06

[4]

图案形成方法 [P].

平野祯典 ;

柳泽秀好 .

中国专利 :CN108459469B ,2018-08-28

[5]

图案形成方法 [P].

渡边司 ;

荻原勤 .

中国专利 :CN110515272A ,2019-11-29

[6]

图案形成方法 [P].

橘诚一郎 ;

渡边武 ;

郡大佑 ;

泽村昂志 .

日本专利 :CN117590684A ,2024-02-23

[7]

图案形成方法 [P].

渡边司 ;

荻原勤 .

中国专利 :CN110515266A ,2019-11-29

[8]

图案形成方法、使用所述图案形成方法制造电子器件的方法，以及电子器件 [P].

上羽亮介 .

中国专利 :CN103620738A ,2014-03-05

[9]

图案形成方法及电子元件的制造方法 [P].

山中司 ;

川本崇司 ;

井口直也 .

中国专利 :CN107340684A ,2017-11-10

[10]

图案形成方法 [P].

远藤政孝 ;

笹子胜 .

中国专利 :CN1194383C ,2003-12-10

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