组合物及其用途和选择性蚀刻硅-锗材料的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202080049504.6

申请日：

2020-06-19

公开(公告)号：

CN114072482A

公开(公告)日：

2022-02-18

发明(设计)人：

F·J·洛佩兹比利亚努埃瓦 Y·伯克 D·勒夫勒 J·O·穆勒 M·布里尔 P·维尔克 J-P·B·林德纳 V·博伊科

申请人：

申请人地址：

德国莱茵河畔路德维希港

IPC主分类号：

C09K1300

IPC分类号：

C09K1308 H01L21306

代理机构：

北京市中咨律师事务所 11247

代理人：

王丹丹;刘金辉

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-07-26	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C09K 13/00 申请日:20200619
2022-02-18	公开	公开

共 50 条

[1]

用于选择性地蚀刻硅-锗材料的组合物、其用于选择性地蚀刻硅-锗材料的用途和用于选择性地蚀刻硅-锗材料的方法 [P].

F·J·洛佩兹维拉纽瓦 ;

罗智晖 ;

A·克里普 ;

沈美卿 ;

S·希尔德布兰特 .

中国专利 :CN118743002A ,2024-10-01

[2]

用于选择性地蚀刻硅-锗材料的组合物、其用于选择性地蚀刻硅-锗材料的用途和用于选择性地蚀刻硅-锗材料的方法 [P].

F·J·洛佩兹维拉纽瓦 ;

S·希尔德布兰特 ;

A·克里普 ;

罗智晖 ;

沈美卿 .

中国专利 :CN118743001A ,2024-10-01

[3]

组合物用于选择性蚀刻硅的用途以及用于选择性蚀刻硅的方法 [P].

F·J·洛佩兹比利亚努埃瓦 ;

S·希尔德布兰特 ;

A·克里普 .

德国专利 :CN117616544A ,2024-02-27

[4]

相对于锗选择性蚀刻硅锗的调配物 [P].

S·比洛迪奥 ;

E·I·库珀 .

中国专利 :CN107851660B ,2018-03-27

[5]

相对于硅选择性蚀刻硅-锗的调配物 [P].

S·M·比洛迪奥 .

中国专利 :CN110494961A ,2019-11-22

[6]

选择性湿式蚀刻组合物和方法 [P].

洪亨杓 ;

许家荣 ;

A·K·达斯 ;

金元来 ;

S·A·利普皮 ;

廖明吉 .

美国专利 :CN118234830A ,2024-06-21

[7]

选择性蚀刻氮化钛的组合物和方法 [P].

埃马纽尔·I·库珀 ;

陈丽敏 ;

斯蒂芬·里皮 ;

许家荣 ;

涂胜宏 ;

王界入 .

中国专利 :CN105492576A ,2016-04-13

[8]

用于选择性蚀刻氮化钛的组合物和方法 [P].

陈丽敏 ;

斯蒂芬·里皮 ;

埃马纽尔·I·库珀 ;

宋凌雁 .

中国专利 :CN111394100A ,2020-07-10

[9]

用于选择性蚀刻氮化钛的组合物和方法 [P].

陈丽敏 ;

埃马纽尔·I·库珀 ;

斯蒂芬·里皮 ;

宋凌雁 ;

许家荣 ;

涂胜宏 ;

王界入 .

中国专利 :CN105102584B ,2015-11-25

[10]

用于选择性蚀刻氮化钛的组合物和方法 [P].

陈丽敏 ;

斯蒂芬·里皮 ;

埃马纽尔·I·库珀 ;

宋凌雁 .

中国专利 :CN105683336A ,2016-06-15

← 1 2 3 4 5 →