一种半导体用等离子清洗装置

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申请号
CN202222460188.0
申请日
2022-09-17
公开(公告)号
CN218251907U
公开(公告)日
2023-01-10
发明(设计)人
唐伟东 周晓娟
申请人
申请人地址
215151 江苏省苏州市高新区浒墅关镇城际路21号2幢2101室
IPC主分类号
B08B502
IPC分类号
B08B504 B08B700 B08B1300 H01L2167
代理机构
北京棘龙知识产权代理有限公司 11740
代理人
顾川江
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体用等离子清洗装置 [P]. 
尹通燮 .
中国专利 :CN106796873B ,2017-05-31
[2]
半导体用大气等离子清洗设备 [P]. 
万华亿 ;
韦太球 .
中国专利 :CN217369582U ,2022-09-06
[3]
等离子喷头及半导体用大气等离子清洗设备 [P]. 
张曹 .
中国专利 :CN113658892A ,2021-11-16
[4]
等离子喷头及半导体用大气等离子清洗设备 [P]. 
张曹 .
中国专利 :CN216161704U ,2022-04-01
[5]
一种等离子清洗装置 [P]. 
朱有豪 ;
朱孝桂 ;
苏华明 .
中国专利 :CN216026773U ,2022-03-15
[6]
一种高速自动半导体等离子清洗设备 [P]. 
高友浪 ;
杨恒 .
中国专利 :CN212991034U ,2021-04-16
[7]
半导体芯片等离子清洗设备 [P]. 
卜明 ;
朱迪 .
中国专利 :CN220717050U ,2024-04-05
[8]
一种电芯等离子清洗装置 [P]. 
诸剑锋 ;
周俊雄 .
中国专利 :CN208728208U ,2019-04-12
[9]
一种等离子清洗装置 [P]. 
王毅 .
中国专利 :CN110076141A ,2019-08-02
[10]
一种等离子清洗装置 [P]. 
王义林 ;
陈晨 .
中国专利 :CN217121124U ,2022-08-05