等离子喷头及半导体用大气等离子清洗设备

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申请号
CN202122151525.3
申请日
2021-09-07
公开(公告)号
CN216161704U
公开(公告)日
2022-04-01
发明(设计)人
张曹
申请人
申请人地址
213161 江苏省常州市武进区常武中路18-67号中国以色列常州创新园10#号厂房7层701-36
IPC主分类号
H01L2167
IPC分类号
B08B700 H01J3732
代理机构
常州市天龙专利事务所有限公司 32105
代理人
于雅洁
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
等离子喷头及半导体用大气等离子清洗设备 [P]. 
张曹 .
中国专利 :CN113658892A ,2021-11-16
[2]
半导体用大气等离子清洗设备 [P]. 
万华亿 ;
韦太球 .
中国专利 :CN217369582U ,2022-09-06
[3]
半导体用等离子清洗装置 [P]. 
尹通燮 .
中国专利 :CN106796873B ,2017-05-31
[4]
半导体芯片等离子清洗设备 [P]. 
卜明 ;
朱迪 .
中国专利 :CN220717050U ,2024-04-05
[5]
一种半导体用等离子清洗装置 [P]. 
唐伟东 ;
周晓娟 .
中国专利 :CN218251907U ,2023-01-10
[6]
电离等离子装置、等离子清洗设备及等离子电离方法 [P]. 
莫贵富 ;
徐廷华 ;
陈俊桂 .
中国专利 :CN118321272A ,2024-07-12
[7]
高效率半导体芯片等离子清洗设备 [P]. 
万华亿 ;
韦太球 .
中国专利 :CN217857785U ,2022-11-22
[8]
一种半导体基板等离子清洗设备 [P]. 
刘天石 ;
刘芳 .
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[9]
大气等离子设备 [P]. 
蔡卫 ;
罗弦 ;
卢永锦 ;
何鹏 .
中国专利 :CN206402511U ,2017-08-11
[10]
等离子清洗设备 [P]. 
徐键 ;
孟祥兴 ;
张博 .
中国专利 :CN222535738U ,2025-02-28