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等离子喷头及半导体用大气等离子清洗设备
被引:0
申请号
:
CN202122151525.3
申请日
:
2021-09-07
公开(公告)号
:
CN216161704U
公开(公告)日
:
2022-04-01
发明(设计)人
:
张曹
申请人
:
申请人地址
:
213161 江苏省常州市武进区常武中路18-67号中国以色列常州创新园10#号厂房7层701-36
IPC主分类号
:
H01L2167
IPC分类号
:
B08B700
H01J3732
代理机构
:
常州市天龙专利事务所有限公司 32105
代理人
:
于雅洁
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-04-01
授权
授权
共 50 条
[1]
等离子喷头及半导体用大气等离子清洗设备
[P].
张曹
论文数:
0
引用数:
0
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0
张曹
.
中国专利
:CN113658892A
,2021-11-16
[2]
半导体用大气等离子清洗设备
[P].
万华亿
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万华亿
;
韦太球
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韦太球
.
中国专利
:CN217369582U
,2022-09-06
[3]
半导体用等离子清洗装置
[P].
尹通燮
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0
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尹通燮
.
中国专利
:CN106796873B
,2017-05-31
[4]
半导体芯片等离子清洗设备
[P].
卜明
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机构:
安徽荣格工业科技有限公司
安徽荣格工业科技有限公司
卜明
;
朱迪
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机构:
安徽荣格工业科技有限公司
安徽荣格工业科技有限公司
朱迪
.
中国专利
:CN220717050U
,2024-04-05
[5]
一种半导体用等离子清洗装置
[P].
唐伟东
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唐伟东
;
周晓娟
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周晓娟
.
中国专利
:CN218251907U
,2023-01-10
[6]
电离等离子装置、等离子清洗设备及等离子电离方法
[P].
莫贵富
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机构:
广东安达智能装备股份有限公司
广东安达智能装备股份有限公司
莫贵富
;
徐廷华
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机构:
广东安达智能装备股份有限公司
广东安达智能装备股份有限公司
徐廷华
;
陈俊桂
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机构:
广东安达智能装备股份有限公司
广东安达智能装备股份有限公司
陈俊桂
.
中国专利
:CN118321272A
,2024-07-12
[7]
高效率半导体芯片等离子清洗设备
[P].
万华亿
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万华亿
;
韦太球
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韦太球
.
中国专利
:CN217857785U
,2022-11-22
[8]
一种半导体基板等离子清洗设备
[P].
刘天石
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机构:
爱佩克斯(合肥)科技有限公司
爱佩克斯(合肥)科技有限公司
刘天石
;
刘芳
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机构:
爱佩克斯(合肥)科技有限公司
爱佩克斯(合肥)科技有限公司
刘芳
.
中国专利
:CN120709197A
,2025-09-26
[9]
大气等离子设备
[P].
蔡卫
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蔡卫
;
罗弦
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罗弦
;
卢永锦
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卢永锦
;
何鹏
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何鹏
.
中国专利
:CN206402511U
,2017-08-11
[10]
等离子清洗设备
[P].
徐键
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机构:
山东基石新材料有限公司
山东基石新材料有限公司
徐键
;
孟祥兴
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机构:
山东基石新材料有限公司
山东基石新材料有限公司
孟祥兴
;
张博
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机构:
山东基石新材料有限公司
山东基石新材料有限公司
张博
.
中国专利
:CN222535738U
,2025-02-28
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