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一种半导体基板等离子清洗设备
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202510913938.0
申请日：
2025-07-03
公开(公告)号：
CN120709197A
公开(公告)日：
2025-09-26
发明(设计)人：
刘天石
刘芳
申请人：
爱佩克斯（合肥）科技有限公司
申请人地址：
230601 安徽省合肥市经济技术开发区天都路4345号3号厂房2层
IPC主分类号：
H01L21/67
IPC分类号：
B08B11/02
B08B7/00
H01J37/32
代理机构：
合肥拓信专利代理事务所(普通合伙) 34251
代理人：
徐海燕
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2025-09-26 | 公开 | 公开 |
| 2025-10-17 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/67申请日:20250703 |