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一种半导体基板清洗设备
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN201922458049.2
申请日：
2019-12-31
公开(公告)号：
CN211359828U
公开(公告)日：
2020-08-28
发明(设计)人：
冀然
申请人：
申请人地址：
266109 山东省青岛市城阳区长城路89号青岛博士创业园21A号楼407、408室
IPC主分类号：
B08B302
IPC分类号：
B08B1300
F26B2100
H01L2167
代理机构：
代理人：
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2020-08-28 | 授权 | 授权 |