一种半导体基板清洗装置

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专利类型
实用新型
申请号
CN201120422069.5
申请日
2011-10-28
公开(公告)号
CN202277980U
公开(公告)日
2012-06-20
发明(设计)人
王祖强
申请人
申请人地址
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
IPC主分类号
B08B302
IPC分类号
B05B102 F26B502 F26B2100
代理机构
北京银龙知识产权代理有限公司 11243
代理人
黄灿;姜精斌
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体基板清洗装置 [P]. 
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陶晓峰 ;
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[2]
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[3]
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[6]
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