半导体基板的清洗装置及半导体基板的清洗方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201780082927.6

申请日：

2017-09-12

公开(公告)号：

CN110168705A

公开(公告)日：

2019-08-23

发明(设计)人：

藤村侑

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L21304

IPC分类号：

代理机构：

隆天知识产权代理有限公司 72003

代理人：

陈曦;向勇

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-08-23	公开	公开
2020-02-28	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/304 申请日:20170912

共 50 条

[1]

半导体基板清洗系统及半导体基板的清洗方法 [P].

小川祐一 .

中国专利 :CN105009258B ,2015-10-28

[2]

半导体基板清洗用组合物、半导体基板的清洗方法、及半导体基板的制造方法 [P].

河合隆一郎 ;

窟江宏彰 ;

茂田麻里 ;

岛田宪司 .

日本专利 :CN119452454A ,2025-02-14

[3]

半导体基板清洗装置 [P].

王晖 ;

陶晓峰 ;

陈福平 ;

贾社娜 ;

王希 ;

张晓燕 ;

李学军 .

中国专利 :CN110383455A ,2019-10-25

[4]

半导体装置的制造方法及半导体基板的清洗方法 [P].

大见忠弘 ;

寺本章伸 ;

长谷部类 ;

宫下雅之 .

中国专利 :CN102007578A ,2011-04-06

[5]

半导体基板的清洗方法以及清洗系统 [P].

小川祐一 ;

山川晴义 .

中国专利 :CN104584198B ,2015-04-29

[6]

半导体基板的制造方法、半导体基板及半导体装置 [P].

大槻刚 ;

松原寿树 ;

铃木温 ;

阿部达夫 ;

佐藤三千登 .

日本专利 :CN120917541A ,2025-11-07

[7]

半导体基板的制造方法、半导体基板及半导体装置 [P].

大槻刚 ;

松原寿树 ;

铃木温 ;

阿部达夫 ;

佐藤三千登 .

日本专利 :CN120787371A ,2025-10-14

[8]

半导体基板、半导体基板的制造方法及半导体装置 [P].

杉山正和 ;

霜垣幸浩 ;

秦雅彦 ;

市川磨 .

中国专利 :CN101978503A ,2011-02-16

[9]

半导体基板的制造方法、半导体基板、及半导体基板的制造装置 [P].

荻原光彦 ;

桥本明弘 .

日本专利 :CN118435320A ,2024-08-02

[10]

半导体基板的清洗干燥方法 [P].

荻原勤 ;

渡边修 ;

永田岳志 ;

小林直贵 ;

郡大佑 .

中国专利 :CN108807140A ,2018-11-13

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