半导体基板的清洗干燥方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201810366118.4

申请日：

2018-04-23

公开(公告)号：

CN108807140A

公开(公告)日：

2018-11-13

发明(设计)人：

荻原勤渡边修永田岳志小林直贵郡大佑

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L2102

IPC分类号：

H01L2167

代理机构：

北京路浩知识产权代理有限公司 11002

代理人：

张晶;谢顺星

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-12-07	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 申请日:20180423
2018-11-13	公开	公开

共 50 条

[1]

半导体基板清洗系统及半导体基板的清洗方法 [P].

小川祐一 .

中国专利 :CN105009258B ,2015-10-28

[2]

半导体基板的清洗装置及半导体基板的清洗方法 [P].

藤村侑 .

中国专利 :CN110168705A ,2019-08-23

[3]

半导体基板清洗用组合物、半导体基板的清洗方法、及半导体基板的制造方法 [P].

河合隆一郎 ;

窟江宏彰 ;

茂田麻里 ;

岛田宪司 .

日本专利 :CN119452454A ,2025-02-14

[4]

半导体装置的制造方法及半导体基板的清洗方法 [P].

大见忠弘 ;

寺本章伸 ;

长谷部类 ;

宫下雅之 .

中国专利 :CN102007578A ,2011-04-06

[5]

半导体基板的制造方法及半导体基板 [P].

秦雅彦 ;

市川磨 ;

卜部友二 ;

宫田典幸 ;

前田辰郎 ;

安田哲二 .

中国专利 :CN103548126B ,2014-01-29

[6]

半导体基板的清洗方法以及清洗系统 [P].

小川祐一 ;

山川晴义 .

中国专利 :CN104584198B ,2015-04-29

[7]

清洗组合物、半导体基板的清洗方法、半导体元件的制造方法 [P].

室祐继 ;

稻叶正 ;

上村哲也 .

日本专利 :CN117441226A ,2024-01-23

[8]

半导体基板清洗装置 [P].

王晖 ;

陶晓峰 ;

陈福平 ;

贾社娜 ;

王希 ;

张晓燕 ;

李学军 .

中国专利 :CN110383455A ,2019-10-25

[9]

清洗组合物、半导体基板的清洗方法以及半导体元件的制造方法 [P].

室祐继 ;

稻叶正 ;

上村哲也 .

日本专利 :CN117397010B ,2024-07-19

[10]

清洗组合物、半导体基板的清洗方法以及半导体元件的制造方法 [P].

室祐继 ;

稻叶正 ;

上村哲也 .

日本专利 :CN117397010A ,2024-01-12

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