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一种单叶式半导体基板清洗装置及清洗方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202410118276.3
申请日：
2024-01-29
公开(公告)号：
CN117672926A
公开(公告)日：
2024-03-08
发明(设计)人：
刘载安
华克路
韩镛弼
申请人：
东领科技装备有限公司
申请人地址：
215200 江苏省苏州市吴江区黎里镇汾湖大道558号2号研发楼101室
IPC主分类号：
H01L21/67
IPC分类号：
H01L21/687
代理机构：
苏州衡创知识产权代理事务所(普通合伙) 32329
代理人：
陈娇
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2024-03-08 | 公开 | 公开 |
| 2024-11-26 | 发明专利申请公布后的驳回 | 发明专利申请公布后的驳回IPC(主分类):H01L 21/67申请公布日:20240308 |
| 2024-03-26 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/67申请日:20240129 |