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离子源
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201711317954.5
申请日
:
2017-12-12
公开(公告)号
:
CN107993909A
公开(公告)日
:
2018-05-04
发明(设计)人
:
井内裕
申请人
:
申请人地址
:
日本京都
IPC主分类号
:
H01J304
IPC分类号
:
H01J312
代理机构
:
中原信达知识产权代理有限责任公司 11219
代理人
:
苏卉;高培培
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2019-05-14
授权
授权
2018-06-01
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 3/04 申请日:20171212
2018-05-04
公开
公开
共 50 条
[1]
离子源
[P].
甲斐裕章
论文数:
0
引用数:
0
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0
甲斐裕章
;
西村一平
论文数:
0
引用数:
0
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0
西村一平
.
中国专利
:CN207338293U
,2018-05-08
[2]
离子源
[P].
安东靖典
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
日新电机株式会社
日新电机株式会社
安东靖典
;
松尾大辅
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引用数:
0
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0
机构:
日新电机株式会社
日新电机株式会社
松尾大辅
.
日本专利
:CN120548588A
,2025-08-26
[3]
离子源
[P].
甲斐裕章
论文数:
0
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0
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0
甲斐裕章
;
西村一平
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0
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0
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0
西村一平
.
中国专利
:CN107833818A
,2018-03-23
[4]
离子源
[P].
山下贵敏
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0
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山下贵敏
;
池尻忠司
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池尻忠司
;
井合哲也
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井合哲也
.
中国专利
:CN101661862B
,2010-03-03
[5]
离子源
[P].
西村一平
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
日新离子机器株式会社
日新离子机器株式会社
西村一平
.
日本专利
:CN117524819A
,2024-02-06
[6]
离子源
[P].
川村昌充
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0
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川村昌充
;
山元彻朗
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0
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山元彻朗
.
中国专利
:CN111739774A
,2020-10-02
[7]
离子源
[P].
宇井利昌
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0
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0
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机构:
日新离子机器株式会社
日新离子机器株式会社
宇井利昌
.
日本专利
:CN117438264A
,2024-01-23
[8]
离子源
[P].
托马斯·N·霍斯奇
论文数:
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托马斯·N·霍斯奇
;
萨米·K·哈托
论文数:
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0
萨米·K·哈托
.
中国专利
:CN104051209B
,2014-09-17
[9]
离子源
[P].
安东靖典
论文数:
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0
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机构:
日新电机株式会社
日新电机株式会社
安东靖典
;
松尾大辅
论文数:
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机构:
日新电机株式会社
日新电机株式会社
松尾大辅
.
日本专利
:CN120457517A
,2025-08-08
[10]
离子源
[P].
沙科·乔治
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机构:
日新离子机器株式会社
日新离子机器株式会社
沙科·乔治
;
萨米·K·哈托
论文数:
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机构:
日新离子机器株式会社
日新离子机器株式会社
萨米·K·哈托
.
日本专利
:CN121011485A
,2025-11-25
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