光刻胶残留物清洗剂

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810011906.8

申请日：

2008-06-19

公开(公告)号：

CN101295143A

公开(公告)日：

2008-10-29

发明(设计)人：

侯军吕冬

申请人：

申请人地址：

116023辽宁省大连市高新园区学子街99号

IPC主分类号：

G03F742

IPC分类号：

代理机构：

大连非凡专利事务所

代理人：

闪红霞

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-11-23	授权	授权
2020-01-24	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G03F 7/42 变更事项:专利权人变更前:大连三达奥克化学股份有限公司变更后:三达奥克化学股份有限公司变更事项:地址变更前:116023 辽宁省大连市高新园区学子街99号变更后:116000 辽宁省大连市沙河口区高新技术产业园区龙头分园庆龙街51号
2009-11-11	实质审查的生效	实质审查的生效
2008-10-29	公开	公开

共 50 条

[1]

光刻胶清洗剂 [P].

杨桂望 .

中国专利 :CN103513523A ,2014-01-15

[2]

压敏胶残留物水基清洗剂 [P].

冯才敏 .

中国专利 :CN101016499A ,2007-08-15

[3]

压敏胶残留物水基清洗剂 [P].

杨晓东 .

中国专利 :CN1618940A ,2005-05-25

[4]

一种光刻胶残留物清洗剂生产用混料装置 [P].

李文瀚 ;

杨同勇 ;

郭锁柱 ;

凌峥 .

中国专利 :CN214598413U ,2021-11-05

[5]

光刻胶残留物的清洗方法 [P].

刘凤梅 ;

谢文春 ;

杨坚 .

中国专利 :CN101089734B ,2007-12-19

[6]

一种光刻胶清洗剂 [P].

史永涛 ;

彭洪修 ;

曹惠英 ;

刘兵 .

中国专利 :CN101755240B ,2010-06-23

[7]

一种光刻胶清洗剂 [P].

彭洪修 ;

史永涛 ;

刘兵 ;

曾浩 .

中国专利 :CN101169597A ,2008-04-30

[8]

一种光刻胶清洗剂组合物 [P].

史永涛 ;

彭洪修 ;

曹惠英 .

中国专利 :CN101750914A ,2010-06-23

[9]

一种光刻胶清洗剂 [P].

史永涛 ;

彭洪修 ;

曹惠英 ;

刘兵 ;

曾浩 .

中国专利 :CN101373340A ,2009-02-25

[10]

一种光刻胶清洗剂 [P].

史永涛 ;

彭洪修 ;

曹惠英 .

中国专利 :CN101614971B ,2009-12-30

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