一种晶圆边缘曝光装置、方法及光刻设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202010423426.3

申请日：

2020-05-19

公开(公告)号：

CN113759654A

公开(公告)日：

2021-12-07

发明(设计)人：

梁学玉

申请人：

申请人地址：

230000 安徽省合肥市经济技术开发区翠微路6号海恒大厦630室

IPC主分类号：

G03F100

IPC分类号：

G03F720 H01L2102

代理机构：

上海晨皓知识产权代理事务所(普通合伙) 31260

代理人：

成丽杰

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-12-24	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/00 申请日:20200519
2021-12-07	公开	公开

共 50 条

[1]

晶圆边缘曝光方法、装置和光刻设备 [P].

张弓玉帛 ;

杨慧 ;

张孟龙 ;

钭诗恩 ;

金港杰 ;

付涛 .

中国专利 :CN118981150A ,2024-11-19

[2]

晶圆边缘曝光方法、晶圆边缘曝光装置及掩膜板 [P].

陈琦南 .

中国专利 :CN113433799B ,2021-09-24

[3]

调节装置、晶圆曝光设备及晶圆边缘曝光方法 [P].

温建胜 .

中国专利 :CN112835264A ,2021-05-25

[4]

一种边缘曝光装置、方法及光刻设备 [P].

田翠侠 ;

夏海 ;

杨思雨 ;

张建新 .

中国专利 :CN114578655B ,2024-04-26

[5]

一种边缘曝光装置、方法及光刻设备 [P].

田翠侠 ;

夏海 ;

杨思雨 ;

张建新 .

中国专利 :CN114578655A ,2022-06-03

[6]

晶圆边缘曝光结构、方法和设备以及晶圆光刻方法 [P].

王红福 ;

苏少明 ;

赵开乾 .

中国专利 :CN115440611A ,2022-12-06

[7]

晶圆边缘曝光系统及方法 [P].

崔栽荣 ;

贺晓彬 ;

杨涛 ;

刘金彪 ;

李亭亭 .

中国专利 :CN114355731A ,2022-04-15

[8]

晶圆边缘曝光系统及方法 [P].

崔栽荣 ;

贺晓彬 ;

杨涛 ;

刘金彪 ;

李亭亭 .

中国专利 :CN114355731B ,2024-07-02

[9]

边缘曝光装置、晶圆结构及其形成方法 [P].

刘伟 ;

张书庆 ;

刘细桥 .

中国专利 :CN108535963A ,2018-09-14

[10]

一种晶圆边缘曝光装置及其控制方法 [P].

李朋 ;

袁宁丰 ;

郝斌荣 ;

陈胜华 ;

梁晨阳 .

中国专利 :CN118588534A ,2024-09-03

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