通过阴离子或受控自由基聚合制备羟基乙烯基芳族聚合物或共聚物的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN02817640.5

申请日：

2002-09-02

公开(公告)号：

CN1553922A

公开(公告)日：

2004-12-08

发明(设计)人：

P·内斯瓦巴 K·库尼莫托

申请人：

申请人地址：

瑞士巴塞尔

IPC主分类号：

C08F1224

IPC分类号：

C08F404 C08F428

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

赵苏林;段晓玲

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2006-04-19	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回
2004-12-08	公开	公开
2005-02-09	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

通过阴离子或者控制自由基聚合制备羟基－乙烯基－芳族聚合物或者共聚物的方法 [P].

K·库尼莫托 ;

P·内斯瓦巴 ;

A·克拉默 .

中国专利 :CN1711290A ,2005-12-21

[2]

乙烯基芳族聚合物和/或共聚物的浓缩的聚合物组合物 [P].

安东尼奥·庞蒂切洛 ;

阿蒂利奥·阿里恩蒂 ;

弗朗西斯科·帕斯夸利 .

中国专利 :CN104822738B ,2015-08-05

[3]

用于通过依次的阴离子/自由基聚合生产高抗冲乙烯基芳族(共)聚合物的半连续集成方法 [P].

R·英格勒瑟 ;

L·齐兹 ;

F·蒙塔纳利 ;

A·卡萨里尼 .

中国专利 :CN101910226B ,2010-12-08

[4]

通过自由基聚合制备的高亚乙烯基聚烯烃与乙烯基或亚乙烯基单体的共聚物 [P].

阿萨雷·恩坎萨 ;

瓦希德·巴盖里 ;

莱昂内尔·穆尔 .

中国专利 :CN100366653C ,1999-05-26

[5]

乙烯基改性有机聚硅氧烷、以其为原料的自由基聚合性聚合物或自由基聚合性共聚物 [P].

谈立易 ;

杉浦常仁 ;

脇田万里 ;

谷口裕子 ;

神崎康枝 .

日本专利 :CN118317995A ,2024-07-09

[6]

乙烯基聚合物的光热自由基聚合制备方法及应用 [P].

王跃川 ;

鲜磊 .

中国专利 :CN110423304B ,2019-11-08

[7]

用于生产乙烯基聚合物的高压自由基聚合 [P].

O·J·波比 ;

C·J·F·霍斯曼 ;

J·弗洛雷斯 ;

S·E·贡萨尔维斯 ;

S·蒙贾尔 ;

M·E·毕晓普 ;

L·罗德里格斯 .

中国专利 :CN108473604A ,2018-08-31

[8]

溴化丁二烯/乙烯基芳族共聚物、该共聚物与乙烯基芳族聚合物的掺合物和由该掺合物形成的聚合物泡沫 [P].

B·A·金 ;

W·G·斯托比 ;

D·J·默里 ;

A·Z·沃尔古 ;

I·博伊里奇 ;

S·M·蒂内蒂 ;

S·F·哈恩 ;

R·E·德鲁姆赖特 .

中国专利 :CN101305022A ,2008-11-12

[9]

借助受控自由基聚合生产聚合物 [P].

P·海斯 ;

S·弗雷施曼 ;

F·贝克尔 ;

K·米尔巴赫 ;

K-D·洪根博格 ;

M·布里姆 ;

M·克莱纳 .

中国专利 :CN103764688A ,2014-04-30

[10]

受控(甲基)丙烯基、乙烯基、亚乙烯基和二烯单体的自由基聚合或共聚方法,以及获得的(共)聚合物 [P].

T·先宁格 ;

L·桑切斯 ;

V·达科斯 ;

D·拉斯特库尔列斯 ;

J·B·韦利亚克 .

中国专利 :CN1186079A ,1998-07-01

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