通过阴离子或者控制自由基聚合制备羟基－乙烯基－芳族聚合物或者共聚物的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200380103187.8

申请日：

2003-11-05

公开(公告)号：

CN1711290A

公开(公告)日：

2005-12-21

发明(设计)人：

K·库尼莫托 P·内斯瓦巴 A·克拉默

申请人：

申请人地址：

瑞士巴塞尔

IPC主分类号：

C08F1222

IPC分类号：

G03F7039

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

范赤;谭明胜

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-01-23	授权	授权
2006-02-15	实质审查的生效	实质审查的生效
2015-12-23	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101638878830 IPC(主分类):C08F 12/22 专利号:ZL2003801031878 申请日:20031105 授权公告日:20080123 终止日期:20141105
2005-12-21	公开	公开

共 50 条

[1]

通过阴离子或受控自由基聚合制备羟基乙烯基芳族聚合物或共聚物的方法 [P].

P·内斯瓦巴 ;

K·库尼莫托 .

中国专利 :CN1553922A ,2004-12-08

[2]

用于通过依次的阴离子/自由基聚合生产高抗冲乙烯基芳族(共)聚合物的半连续集成方法 [P].

R·英格勒瑟 ;

L·齐兹 ;

F·蒙塔纳利 ;

A·卡萨里尼 .

中国专利 :CN101910226B ,2010-12-08

[3]

乙烯基芳族聚合物和/或共聚物的浓缩的聚合物组合物 [P].

安东尼奥·庞蒂切洛 ;

阿蒂利奥·阿里恩蒂 ;

弗朗西斯科·帕斯夸利 .

中国专利 :CN104822738B ,2015-08-05

[4]

乙烯基聚合物的光热自由基聚合制备方法及应用 [P].

王跃川 ;

鲜磊 .

中国专利 :CN110423304B ,2019-11-08

[5]

用于生产乙烯基聚合物的高压自由基聚合 [P].

O·J·波比 ;

C·J·F·霍斯曼 ;

J·弗洛雷斯 ;

S·E·贡萨尔维斯 ;

S·蒙贾尔 ;

M·E·毕晓普 ;

L·罗德里格斯 .

中国专利 :CN108473604A ,2018-08-31

[6]

溴化丁二烯/乙烯基芳族共聚物、该共聚物与乙烯基芳族聚合物的掺合物和由该掺合物形成的聚合物泡沫 [P].

B·A·金 ;

W·G·斯托比 ;

D·J·默里 ;

A·Z·沃尔古 ;

I·博伊里奇 ;

S·M·蒂内蒂 ;

S·F·哈恩 ;

R·E·德鲁姆赖特 .

中国专利 :CN101305022A ,2008-11-12

[7]

乙烯基芳族单体的阴离子聚合方法 [P].

P·德斯伯埃斯 ;

V·瓦尔泽勒翰 ;

C·沙德 ;

M·冯塔纳勒 ;

A·德弗埃悟科斯 ;

S·曼罗特 .

中国专利 :CN1387541A ,2002-12-25

[8]

通过自由基聚合制备的高亚乙烯基聚烯烃与乙烯基或亚乙烯基单体的共聚物 [P].

阿萨雷·恩坎萨 ;

瓦希德·巴盖里 ;

莱昂内尔·穆尔 .

中国专利 :CN100366653C ,1999-05-26

[9]

制备高抗冲乙烯基芳族聚合物的方法 [P].

B·克塔加鲁奇卡林加亚 ;

M·维卢帕桑德拉史瓦拉姆 ;

B·F·M·阿尔法路德 ;

N·M·阿尔-阿杰米 .

:CN120530149A ,2025-08-22

[10]

使用自由基连续制备阴离子聚合物的方法 [P].

让-马克·苏奥 ;

伊夫·马特 ;

多米尼克·佩塞隆 ;

让-吕克·杜波依斯 .

中国专利 :CN107108794A ,2017-08-29

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