使用自由基连续制备阴离子聚合物的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201580059090.4

申请日：

2015-12-17

公开(公告)号：

CN107108794A

公开(公告)日：

2017-08-29

发明(设计)人：

让-马克·苏奥伊夫·马特多米尼克·佩塞隆让-吕克·杜波依斯

申请人：

申请人地址：

法国热奈

IPC主分类号：

C08F2006

IPC分类号：

C08F201

代理机构：

北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413

代理人：

刘晶晶;刘继富

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-06-05	授权	授权
2017-08-29	公开	公开
2017-11-17	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C08F 20/06 申请日:20151217

共 50 条

[1]

阴离子聚合物的制备方法以及阴离子聚合物 [P].

徐林 ;

邵明波 ;

宋小飞 ;

李建成 ;

汪泽中 ;

刘改 ;

程璐 ;

胡保利 ;

付东生 .

中国专利 :CN120718182A ,2025-09-30

[2]

阴离子聚合物及其制备方法 [P].

宋小飞 ;

邵明波 ;

徐林 ;

李建成 ;

汪泽中 ;

刘改 ;

程璐 ;

胡保利 ;

付东生 .

中国专利 :CN120718183A ,2025-09-30

[3]

自由基聚合的方法、聚合物及其制备方法 [P].

夏磊 ;

王宪桢 ;

孙天赐 ;

范子回 ;

黄国 ;

王月芹 ;

方海英 ;

何涛 .

中国专利 :CN121181745A ,2025-12-23

[4]

阴离子聚合物的制造方法 [P].

高桥荣治 ;

山口胜司 .

中国专利 :CN100478362C ,2007-05-16

[5]

通过阴离子或者控制自由基聚合制备羟基－乙烯基－芳族聚合物或者共聚物的方法 [P].

K·库尼莫托 ;

P·内斯瓦巴 ;

A·克拉默 .

中国专利 :CN1711290A ,2005-12-21

[6]

通过阴离子或受控自由基聚合制备羟基乙烯基芳族聚合物或共聚物的方法 [P].

P·内斯瓦巴 ;

K·库尼莫托 .

中国专利 :CN1553922A ,2004-12-08

[7]

使用自由基聚合剂形成的XNBR聚合物 [P].

C·H·陈 ;

C·方特瑙 ;

吴宇凡 ;

O·辛蒂罗格鲁 ;

魏真理 ;

S·德莱耶斯 .

:CN119654358A ,2025-03-18

[8]

自由基聚合性组合物及其聚合物 [P].

金子知正 ;

犬伏良祐 ;

平间进 .

日本专利 :CN119343385A ,2025-01-21

[9]

阴离子聚合物及其制备方法 [P].

宋小飞 ;

邵明波 ;

徐林 ;

刘改 ;

汪泽中 ;

李建成 ;

程璐 ;

胡保利 ;

付东生 .

中国专利 :CN120718181A ,2025-09-30

[10]

阴离子聚合物 [P].

拉蒙·瓦尔斯 ;

贾米·图杜里 .

中国专利 :CN101056897A ,2007-10-17

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