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一种真空磁控溅射薄膜镀制设备
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN201922112052.9
申请日：
2019-12-01
公开(公告)号：
CN210945770U
公开(公告)日：
2020-07-07
发明(设计)人：
宋泳东
申请人：
申请人地址：
266000 山东省青岛市即墨区环秀街道办事处国家泊子村
IPC主分类号：
C23C1435
IPC分类号：
C23C1450
代理机构：
代理人：
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2020-07-07 | 授权 | 授权 |