一种真空磁控溅射彩镀设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200910012996.7

申请日：

2009-08-07

公开(公告)号：

CN101988187A

公开(公告)日：

2011-03-23

发明(设计)人：

渠洪波

申请人：

申请人地址：

110111 辽宁省沈阳市苏家屯区沙河铺镇鲍家

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

代理机构：

沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002

代理人：

俞鲁江

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-05-04	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101068902029 IPC(主分类):C23C 14/35 专利申请号:2009100129967 申请日:20090807
2012-11-07	授权	授权
2011-03-23	公开	公开

共 50 条

[1]

真空磁控溅射镀辊设备 [P].

王勇 ;

吴涛 .

中国专利 :CN117660910B ,2024-05-10

[2]

真空磁控溅射镀辊设备 [P].

王勇 ;

吴涛 .

中国专利 :CN117660910A ,2024-03-08

[3]

一种带有补偿斜靶的真空磁控溅射镀膜机 [P].

渠洪波 .

中国专利 :CN201442976U ,2010-04-28

[4]

一种真空磁控溅射薄膜镀制设备 [P].

宋泳东 .

中国专利 :CN210945770U ,2020-07-07

[5]

一种真空磁控溅射薄膜镀制设备 [P].

王军 .

中国专利 :CN213013074U ,2021-04-20

[6]

一种真空磁控溅射薄膜镀制设备 [P].

曾庆熙 ;

李强 ;

郑立冬 .

中国专利 :CN223280919U ,2025-08-29

[7]

真空磁控溅射贵金属薄膜镀制设备 [P].

汪友林 .

中国专利 :CN201722425U ,2011-01-26

[8]

一种真空磁控溅射贵金属薄膜镀制设备 [P].

向海洋 ;

李庆国 .

中国专利 :CN221822313U ,2024-10-11

[9]

一种真空磁控溅射镀膜设备 [P].

杜彦 ;

杨占雨 ;

李空军 ;

张学善 .

中国专利 :CN210012893U ,2020-02-04

[10]

一种高效真空磁控溅射设备 [P].

刘文龙 ;

王斌 ;

骆陈喜 .

中国专利 :CN215757582U ,2022-02-08

← 1 2 3 4 5 →