化学机械抛光工艺抛光垫的修整器

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201720065844.3

申请日：

2017-01-19

公开(公告)号：

CN206464992U

公开(公告)日：

2017-09-05

发明(设计)人：

黄荣燕

申请人：

申请人地址：

214194 江苏省无锡市锡山区锡北镇泾虹路58号优谷企业园45号

IPC主分类号：

B24B53017

IPC分类号：

代理机构：

无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104

代理人：

曹祖良;屠志力

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-09-05	授权	授权

共 50 条

[1]

化学机械抛光垫修整器 [P].

杨宗庆 ;

董光乾 ;

王伟东 ;

钱卫 ;

谢咸盛 .

中国专利 :CN202180415U ,2012-04-04

[2]

化学机械抛光抛光垫修整装置 [P].

钟旻 .

中国专利 :CN203542368U ,2014-04-16

[3]

化学机械抛光垫修整器 [P].

约瑟夫·史密斯 ;

安德鲁·加尔平 ;

克里斯托弗·沃戈 .

中国专利 :CN103688343A ,2014-03-26

[4]

化学机械抛光垫 [P].

张泽芳 ;

彭诗月 .

中国专利 :CN209466099U ,2019-10-08

[5]

化学机械抛光垫修整器 [P].

宋健民 .

中国专利 :CN101094746A ,2007-12-26

[6]

化学机械抛光剂及化学机械抛光工艺 [P].

刘聪 ;

董信国 .

中国专利 :CN118978865A ,2024-11-19

[7]

化学机械抛光垫及化学机械抛光方法 [P].

刘宇宏 ;

韩桂全 ;

雒建斌 ;

郭丹 ;

路新春 .

中国专利 :CN102601727A ,2012-07-25

[8]

化学机械抛光修整器 [P].

J·吴 ;

R·W·J·霍尔 ;

E·M·舒勒 ;

S·拉曼斯 .

中国专利 :CN102612734A ,2012-07-25

[9]

一种用于化学机械抛光工艺的抛光垫修整方法 [P].

胡平 ;

张健 .

中国专利 :CN104416466A ,2015-03-18

[10]

化学机械抛光和垫修整方法 [P].

杰勒德·斯蒂芬·莫洛尼 ;

王惠明 ;

劳志刚 .

中国专利 :CN100526018C ,2004-03-31

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