化学机械抛光剂及化学机械抛光工艺

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411047413.5

申请日：

2024-07-31

公开(公告)号：

CN118978865A

公开(公告)日：

2024-11-19

发明(设计)人：

刘聪董信国

申请人：

上海积塔半导体有限公司

申请人地址：

201306 上海市浦东新区自由贸易试验区临港新片区云水路600号

IPC主分类号：

C09G1/02

IPC分类号：

B24B37/04

代理机构：

上海隆天律师事务所 31282

代理人：

夏彬

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

上海市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-12-06	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C09G 1/02申请日:20240731
2024-11-19	公开	公开

共 50 条

[1]

化学机械抛光设备与化学机械抛光工艺 [P].

胡俊汀 ;

谢祖怡 ;

曾子育 ;

郭永杰 ;

白弘吉 .

中国专利 :CN1986157A ,2007-06-27

[2]

化学机械抛光垫及化学机械抛光方法 [P].

志保浩司 ;

田野裕之 ;

保坂幸生 ;

西村秀树 .

中国专利 :CN1864929A ,2006-11-22

[3]

化学机械抛光设备及化学机械抛光方法 [P].

朱慧珑 ;

钟汇才 ;

梁擎擎 ;

赵超 .

中国专利 :CN102756323A ,2012-10-31

[4]

化学机械抛光设备及化学机械抛光方法 [P].

李洪阳 ;

陈映松 ;

许振杰 ;

李长坤 ;

王科 .

中国专利 :CN120134207B ,2025-08-19

[5]

化学机械抛光垫及化学机械抛光方法 [P].

刘宇宏 ;

韩桂全 ;

雒建斌 ;

郭丹 ;

路新春 .

中国专利 :CN102601727A ,2012-07-25

[6]

化学机械抛光设备及化学机械抛光方法 [P].

李洪阳 ;

陈映松 ;

许振杰 ;

李长坤 ;

王科 .

中国专利 :CN120862551A ,2025-10-31

[7]

化学机械抛光设备及化学机械抛光方法 [P].

李洪阳 ;

陈映松 ;

许振杰 ;

李长坤 ;

王科 .

中国专利 :CN120134207A ,2025-06-13

[8]

化学机械抛光方法 [P].

B·钱 ;

M·W·格鲁特 ;

M·F·索南夏因 .

中国专利 :CN105215837B ,2016-01-06

[9]

化学机械抛光装置和化学机械抛光方法 [P].

铃木三惠子 ;

土屋泰章 .

中国专利 :CN1098746C ,1999-09-01

[10]

化学机械抛光方法和化学机械抛光设备 [P].

邵群 ;

王庆玲 .

中国专利 :CN103035504B ,2013-04-10

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