化学机械抛光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201510329335.2

申请日：

2015-06-15

公开(公告)号：

CN105215837B

公开(公告)日：

2016-01-06

发明(设计)人：

B·钱 M·W·格鲁特 M·F·索南夏因

申请人：

申请人地址：

美国特拉华州

IPC主分类号：

B24B3704

IPC分类号：

B24B3724 H01L2102

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

陈哲锋;江磊

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-11-16	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101687995447 IPC(主分类):B24B 37/04 专利申请号:2015103293352 申请日:20150615
2016-01-06	公开	公开
2018-10-19	授权	授权

共 50 条

[1]

化学机械抛光方法 [P].

钱百年 ;

郭毅 ;

M·W·德格鲁特 ;

G·C·雅各布 .

中国专利 :CN106625031A ,2017-05-10

[2]

化学机械抛光垫和化学机械抛光方法 [P].

西村秀树 ;

清水崇文 ;

栗山敬祐 ;

辻昭卫 .

中国专利 :CN1990183A ,2007-07-04

[3]

化学机械抛光垫以及化学机械抛光方法 [P].

志保浩司 ;

保坂幸生 ;

长谷川亨 ;

川桥信夫 .

中国专利 :CN100352605C ,2005-03-09

[4]

化学机械抛光衬垫和化学机械抛光方法 [P].

田野裕之 ;

西村秀树 ;

志保浩司 .

中国专利 :CN1757483A ,2006-04-12

[5]

化学机械抛光剂及化学机械抛光工艺 [P].

刘聪 ;

董信国 .

中国专利 :CN118978865A ,2024-11-19

[6]

化学机械抛光垫 [P].

B·钱 ;

F·叶 ;

T-C·王 ;

S-H·曾 ;

K·W-H·佟 ;

M·W·德格鲁特 .

中国专利 :CN108687654A ,2018-10-23

[7]

化学机械抛光垫 [P].

B·钱 ;

M·W·格鲁特 .

中国专利 :CN105014528A ,2015-11-04

[8]

化学机械抛光设备与化学机械抛光工艺 [P].

胡俊汀 ;

谢祖怡 ;

曾子育 ;

郭永杰 ;

白弘吉 .

中国专利 :CN1986157A ,2007-06-27

[9]

化学机械抛光装置和化学机械抛光方法 [P].

铃木三惠子 ;

土屋泰章 .

中国专利 :CN1098746C ,1999-09-01

[10]

化学机械抛光方法和化学机械抛光设备 [P].

邵群 ;

王庆玲 .

中国专利 :CN103035504B ,2013-04-10

← 1 2 3 4 5 →