一种磷化铟晶片的清洗方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110994873.9

申请日：

2021-08-27

公开(公告)号：

CN113690128A

公开(公告)日：

2021-11-23

发明(设计)人：

刘丽杰赵有文段满龙刘鹏王书怡

申请人：

申请人地址：

519000 广东省珠海市高新区金鼎工业园金园一路6号8栋厂房

IPC主分类号：

H01L2102

IPC分类号：

代理机构：

广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205

代理人：

黄菲菲

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-12-10	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 申请日:20210827
2021-11-23	公开	公开

共 50 条

[1]

一种磷化铟晶片的研磨方法 [P].

周一 ;

毕洪伟 ;

彭杰 .

中国专利 :CN112975736A ,2021-06-18

[2]

磷化铟晶片清洗方法及半导体晶片清洗装置 [P].

王金灵 ;

周铁军 ;

田玉莲 ;

毕宏岩 .

中国专利 :CN117380617A ,2024-01-12

[3]

一种半导体晶片的抛光方法及磷化铟晶片 [P].

王亚坤 ;

李海淼 .

中国专利 :CN114290229A ,2022-04-08

[4]

一种磷化铟晶片的清洗工艺 [P].

黄艺毅 ;

郑金龙 ;

马金峰 ;

周铁军 .

中国专利 :CN120809572A ,2025-10-17

[5]

一种磷化铟晶片的超洁净清洗方法及应用 [P].

梁超 ;

李海淼 .

中国专利 :CN114220732B ,2022-03-22

[6]

一种磷化铟晶片的清洗方法 [P].

郑金龙 ;

刘兴达 ;

曾琦 ;

柯尊斌 ;

王卿伟 .

中国专利 :CN113035690A ,2021-06-25

[7]

磷化铟晶片及其表面清洗方法 [P].

徐卫 ;

任殿胜 ;

李娟 ;

刘文森 .

中国专利 :CN102456549A ,2012-05-16

[8]

一种磷化铟衬底晶片的清洗方法 [P].

郑金龙 ;

周铁军 ;

马金峰 ;

刘良副 ;

董晨晨 ;

曾琦 ;

宋向荣 .

中国专利 :CN113793801A ,2021-12-14

[9]

一种磷化铟晶片的腐蚀方法 [P].

周一 ;

毕洪伟 ;

彭杰 .

中国专利 :CN113707535A ,2021-11-26

[10]

一种磷化铟晶片的腐蚀方法 [P].

周一 ;

毕洪伟 ;

彭杰 .

中国专利 :CN113707535B ,2024-07-19

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