显影处理方法和显影液涂布装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200510099555.7

申请日：

2002-08-28

公开(公告)号：

CN1743963A

公开(公告)日：

2006-03-08

发明(设计)人：

吉原孝介田中启一山本太郎京田秀治竹口博史大河内厚

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G03F730

IPC分类号：

G03F726

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

胡强

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2006-03-08	公开	公开
2006-05-03	实质审查的生效	实质审查的生效
2021-08-06	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/30 申请日:20020828 授权公告日:20101222 终止日期:20200828
2010-12-22	授权	授权

共 50 条

[1]

显影液涂布装置 [P].

吉原孝介 ;

田中启一 ;

山本太郎 ;

京田秀治 ;

竹口博史 ;

大河内厚 .

中国专利 :CN101424886A ,2009-05-06

[2]

使用含有有机溶剂的显影液的显影处理方法和显影处理装置 [P].

本武幸一 ;

丹羽崇文 ;

京田秀治 ;

吉原孝介 .

中国专利 :CN102650835A ,2012-08-29

[3]

显影液组成物 [P].

陈启盛 .

中国专利 :CN1811602B ,2006-08-02

[4]

显影液组成物 [P].

刘大铭 ;

李晏成 ;

陈俊廷 .

中国专利 :CN101290480A ,2008-10-22

[5]

显影液组成物 [P].

刘大铭 ;

李晏成 ;

郑敏精 ;

周德纲 .

中国专利 :CN101750908A ,2010-06-23

[6]

显影液组成物 [P].

张海清 ;

杨久霞 ;

张卓 ;

赵吉生 ;

何璇 ;

李琳 .

中国专利 :CN101750910B ,2010-06-23

[7]

显影液组成物 [P].

陈启盛 ;

刘弘仁 ;

郑孟勋 .

中国专利 :CN1828429A ,2006-09-06

[8]

显影液制造装置及显影液制造方法 [P].

中川俊元 ;

菊川诚 ;

小川修 ;

森田悟 ;

宝山隆博 .

中国专利 :CN1237398C ,2002-10-09

[9]

显影液的浓度调节方法、调制装置和显影液 [P].

高崎纪博 ;

杉本建二 ;

棚桥亮太 ;

板东嘉文 ;

能谷敦子 ;

谷口克人 .

中国专利 :CN103852978B ,2014-06-11

[10]

显影液喷嘴组件和显影装置 [P].

伍强 ;

郝静安 ;

孔德平 .

中国专利 :CN203882094U ,2014-10-15

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