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在等离子体室中对衬底进行等离子体处理的方法和等离子体处理系统
被引：0
申请号：
CN202080066867.0
申请日：
2020-09-23
公开(公告)号：
CN114586129A
公开(公告)日：
2022-06-03
发明(设计)人：
W·加耶夫斯基
K·鲁达
J·斯维亚特尼基
申请人：
申请人地址：
波兰兹隆卡
IPC主分类号：
H01J3732
IPC分类号：
H01J3734
代理机构：
永新专利商标代理有限公司 72002
代理人：
顾凌云
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2022-06-03 | 公开 | 公开 |
| 2022-06-21 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20200923 |