低气压层流等离子体喷涂装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN01279072.9

申请日：

2001-12-24

公开(公告)号：

CN2528538Y

公开(公告)日：

2003-01-01

发明(设计)人：

吴承康潘文霞马维

申请人：

申请人地址：

100080北京市海淀区中关村路15号

IPC主分类号：

B05B506

IPC分类号：

B05B722

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

方国成

法律状态：

专利权的终止未缴年费专利权终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2007-02-14	专利权的终止未缴年费专利权终止	专利权的终止未缴年费专利权终止
2003-01-01	授权	授权

共 50 条

[1]

层流等离子体喷涂装置及方法 [P].

吴承康 ;

潘文霞 ;

马维 .

中国专利 :CN1421278A ,2003-06-04

[2]

一种提高低气压等离子体喷涂沉积率的方法 [P].

朱华 ;

李向阳 ;

王鹏飞 ;

黄佳华 .

中国专利 :CN105220104A ,2016-01-06

[3]

层流等离子体发生器 [P].

曹修全 ;

余德平 ;

姚进 ;

苗建国 ;

向勇 ;

肖蒙 .

中国专利 :CN104853514A ,2015-08-19

[4]

层流等离子体发生器 [P].

曹修全 ;

余德平 ;

姚进 ;

苗建国 ;

向勇 ;

肖蒙 .

中国专利 :CN204795821U ,2015-11-18

[5]

等离子体喷涂装置和方法 [P].

N·安托洛蒂 ;

G·科佩勒蒂 .

中国专利 :CN109819660B ,2019-05-28

[6]

层流等离子体焊接装置 [P].

陈千智 ;

李毅钾 ;

李露 ;

何泽 ;

李向阳 .

中国专利 :CN206028987U ,2017-03-22

[7]

低气压放电等离子体水处理装置 [P].

孙红梅 ;

区琼荣 .

中国专利 :CN203200062U ,2013-09-18

[8]

一种稳定层流等离子体射流的方法 [P].

王鹏飞 ;

黄佳华 ;

杨超 ;

赵华 ;

任琼英 ;

李向阳 ;

李露 .

中国专利 :CN104602431A ,2015-05-06

[9]

等离子体喷涂装置和方法 [P].

尼克莱·苏斯洛夫 .

中国专利 :CN101653047B ,2010-02-17

[10]

层流等离子体强化AT尖轨 [P].

龙作虹 ;

程梦晓 ;

胡秋华 ;

周毅 .

中国专利 :CN206034201U ,2017-03-22

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