一种提高低气压等离子体喷涂沉积率的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201410275216.9

申请日：

2014-06-19

公开(公告)号：

CN105220104A

公开(公告)日：

2016-01-06

发明(设计)人：

朱华李向阳王鹏飞黄佳华

申请人：

申请人地址：

610000 四川省成都市高新区天府大道北段28号茂业中心B塔2802

IPC主分类号：

C23C4134

IPC分类号：

代理机构：

代理人：

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-10-09	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C23C 4/134 申请公布日:20160106
2016-01-06	公开	公开
2016-02-03	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101644497765 IPC(主分类):C23C 4/134 专利申请号:2014102752169 申请日:20140619

共 50 条

[1]

低气压层流等离子体喷涂装置 [P].

吴承康 ;

潘文霞 ;

马维 .

中国专利 :CN2528538Y ,2003-01-01

[2]

层流等离子体喷涂装置及方法 [P].

吴承康 ;

潘文霞 ;

马维 .

中国专利 :CN1421278A ,2003-06-04

[3]

等离子体沉积方法和等离子体沉积设备 [P].

山本薰 ;

金昌炫 ;

宋伣在 ;

申建旭 ;

申铉振 ;

安星柱 ;

李章熙 ;

李昌锡 ;

全基荣 ;

郑根吾 .

中国专利 :CN110880447A ,2020-03-13

[4]

等离子体沉积方法和等离子体沉积设备 [P].

山本薰 ;

金昌炫 ;

宋伣在 ;

申建旭 ;

申铉振 ;

安星柱 ;

李章熙 ;

李昌锡 ;

全基荣 ;

郑根吾 .

韩国专利 :CN110880447B ,2024-04-09

[5]

一种喷涂等离子体炬 [P].

李军 ;

赵鹏 ;

李琳 ;

吴斌 .

中国专利 :CN120311133A ,2025-07-15

[6]

低气压放电等离子体水处理装置 [P].

孙红梅 ;

区琼荣 .

中国专利 :CN203200062U ,2013-09-18

[7]

等离子体沉积方法 [P].

沙林达·维克拉姆·辛格 ;

理查德·安东尼·莱昂纳 .

中国专利 :CN109072425A ,2018-12-21

[8]

一种低气压等离子体增强渗氮的设备 [P].

林国强 ;

韩治昀 ;

魏科科 .

中国专利 :CN204434714U ,2015-07-01

[9]

低气压放电等离子体水处理装置及方法 [P].

孙红梅 ;

区琼荣 .

中国专利 :CN104058480B ,2014-09-24

[10]

一种等离子体喷涂装置及其使用方法 [P].

王虎周 ;

王晓鹏 ;

潘鹏飞 .

中国专利 :CN119372580B ,2025-04-11

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