一种低气压等离子体增强渗氮的设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201520058633.8

申请日：

2015-01-27

公开(公告)号：

CN204434714U

公开(公告)日：

2015-07-01

发明(设计)人：

林国强韩治昀魏科科

申请人：

申请人地址：

213164 江苏省常州市武进区常武中路801号常州科教城

IPC主分类号：

C23C836

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法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-07-01	授权	授权

共 50 条

[1]

一种低气压等离子体增强渗氮的设备及方法 [P].

林国强 ;

韩治昀 ;

魏科科 .

中国专利 :CN104561888A ,2015-04-29

[2]

一种等离子体增强制备精密涂层的电弧离子镀设备 [P].

林国强 ;

韩治昀 ;

魏科科 .

中国专利 :CN204434722U ,2015-07-01

[3]

一种等离子体增强制备精密涂层的电弧离子镀设备及方法 [P].

林国强 ;

韩治昀 ;

魏科科 .

中国专利 :CN104561910A ,2015-04-29

[4]

一种激光熔覆高熵合金层的等离子体电解渗氮方法 [P].

董美伶 ;

刘鹏伟 ;

卢冰文 ;

王超会 ;

由园 ;

张海新 ;

蘧延庆 ;

芦宏 ;

顾峰 ;

边楠 ;

张博浩 .

中国专利 :CN120818786A ,2025-10-21

[5]

一种离子渗氮及电弧离子镀膜的表面复合改性设备 [P].

石昌仑 ;

卢国英 ;

林国强 ;

韩治昀 ;

魏科科 .

中国专利 :CN204434723U ,2015-07-01

[6]

一种等离子体增强非平衡磁控溅射方法 [P].

徐军 ;

马腾才 ;

邓新绿 ;

张家良 ;

陆文祺 ;

董闯 .

中国专利 :CN1338530A ,2002-03-06

[7]

一种稀土催化改性液相等离子体电解渗氮方法及电解液 [P].

王超会 ;

刘鹏伟 ;

董美伶 ;

由园 ;

张海新 ;

顾峰 ;

边楠 ;

吕英领 ;

陈淑婧 .

中国专利 :CN120844001A ,2025-10-28

[8]

一种离子渗氮及电弧离子镀膜的表面复合改性设备及方法 [P].

石昌仑 ;

卢国英 ;

林国强 ;

韩治昀 ;

魏科科 .

中国专利 :CN104561909A ,2015-04-29

[9]

用计算机控制的等离子体源离子渗氮工艺及设备 [P].

邓新绿 ;

马腾才 ;

王德真 ;

王延平 ;

杨福宝 ;

陆文琪 ;

张家良 ;

阎海洋 .

中国专利 :CN1184346C ,2000-08-09

[10]

等离子体源增强沉积设备 [P].

李国卿 ;

关秉羽 ;

李剑锋 ;

牟宗信 .

中国专利 :CN2632095Y ,2004-08-11

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