一种激光熔覆高熵合金层的等离子体电解渗氮方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202511056792.9

申请日：

2025-07-30

公开(公告)号：

CN120818786A

公开(公告)日：

2025-10-21

发明(设计)人：

董美伶刘鹏伟卢冰文王超会由园张海新蘧延庆芦宏顾峰边楠张博浩

申请人：

齐齐哈尔大学

申请人地址：

161006 黑龙江省齐齐哈尔市建华区文化大街42号

IPC主分类号：

C23C8/36

IPC分类号：

C23C24/10 C23C8/02

代理机构：

西安研科知识产权代理事务所(普通合伙) 6100357

代理人：

徐俊

法律状态：

公开

国省代码：

黑龙江省齐齐哈尔市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-10-21	公开	公开
2025-11-07	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C23C 8/36申请日:20250730

共 50 条

[1]

一种稀土催化改性液相等离子体电解渗氮方法及电解液 [P].

王超会 ;

刘鹏伟 ;

董美伶 ;

由园 ;

张海新 ;

顾峰 ;

边楠 ;

吕英领 ;

陈淑婧 .

中国专利 :CN120844001A ,2025-10-28

[2]

液相等离子体电解渗氮的电解液 [P].

华小珍 ;

许武波 ;

周浪 ;

郭文廷 ;

周贤良 ;

崔霞 .

中国专利 :CN103060742A ,2013-04-24

[3]

一种低气压等离子体增强渗氮的设备 [P].

林国强 ;

韩治昀 ;

魏科科 .

中国专利 :CN204434714U ,2015-07-01

[4]

一种低气压等离子体增强渗氮的设备及方法 [P].

林国强 ;

韩治昀 ;

魏科科 .

中国专利 :CN104561888A ,2015-04-29

[5]

一种激光熔覆高熵合金离子渗氮复合涂层及其制备方法 [P].

刘晓飞 ;

胡恒广 ;

闫冬成 ;

张广涛 ;

刘泽文 ;

杨懿 ;

李彩霞 ;

闫俊龙 ;

叶润 ;

王存麒 ;

马俊卿 .

中国专利 :CN118086891A ,2024-05-28

[6]

一种铜表面激光熔覆高熵合金涂层的方法 [P].

战再吉 ;

史鹏飞 ;

曹海要 .

中国专利 :CN113621958A ,2021-11-09

[7]

一种液相等离子体电解渗入装置和方法 [P].

刘瑞良 ;

李凌泽 ;

宋天宇 ;

边城鑫 .

中国专利 :CN113430486A ,2021-09-24

[8]

一种激光熔覆双相高熵合金涂层及其制备方法 [P].

刘洪喜 ;

杨琛 ;

刘宇翀 ;

刘亚霞 ;

郝轩弘 ;

王悦怡 .

中国专利 :CN119685675A ,2025-03-25

[9]

一种激光熔覆双相高熵合金涂层及其制备方法 [P].

刘洪喜 ;

杨琛 ;

刘宇翀 ;

刘亚霞 ;

郝轩弘 ;

王悦怡 .

中国专利 :CN119685675B ,2025-10-10

[10]

一种等离子熔覆高熵合金涂层的制备方法 [P].

王智慧 ;

王虎 ;

贺定勇 ;

蒋建敏 ;

崔丽 ;

周正 ;

赵雪飞 .

中国专利 :CN103060797A ,2013-04-24

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