等离子体产生装置及等离子体处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200980117009.8

申请日：

2009-05-21

公开(公告)号：

CN102027811A

公开(公告)日：

2011-04-20

发明(设计)人：

江部明宪安东靖典渡边正则

申请人：

申请人地址：

日本京都府

IPC主分类号：

H05H146

IPC分类号：

C23C16507 H01L213065

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

李贵亮

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-12-09	授权	授权
2011-04-20	公开	公开
2016-02-03	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101727566043 IPC(主分类):H05H 1/46 专利号:ZL2009801170098 登记生效日:20160115 变更事项:专利权人变更前权利人:EMD株式会社变更后权利人:EMD株式会社变更事项:地址变更前权利人:日本京都府变更后权利人:日本京都府变更事项:专利权人变更前权利人:安东靖典变更后权利人:无
2011-06-15	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101079494315 IPC(主分类):H05H 1/46 专利申请号:2009801170098 申请日:20090521

共 50 条

[1]

等离子体处理装置和等离子体产生装置 [P].

加藤寿 ;

三浦繁博 .

中国专利 :CN103805968A ,2014-05-21

[2]

等离子体产生装置及等离子体处理装置 [P].

南光正平 .

日本专利 :CN119817178A ,2025-04-11

[3]

等离子体产生组件及等离子体处理装置 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN210984687U ,2020-07-10

[4]

等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P].

菊池亨 ;

神保洋介 ;

茶谷宏纪 ;

西方靖 ;

龟崎厚治 .

中国专利 :CN110832624A ,2020-02-21

[5]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

森本未知数 ;

安井尚辉 ;

大越康雄 .

中国专利 :CN104241071A ,2014-12-24

[6]

等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P].

菊池亨 ;

神保洋介 ;

茶谷宏纪 ;

西方靖 ;

龟崎厚治 .

日本专利 :CN110832624B ,2024-02-27

[7]

等离子体处理装置 [P].

井野英二 ;

渡边亮 ;

石原俊一 ;

芦田肇 ;

庄子博 ;

吉村桂一 .

中国专利 :CN102203909A ,2011-09-28

[8]

等离子体处理装置 [P].

节原裕一 ;

江部明宪 .

中国专利 :CN101855947A ,2010-10-06

[9]

等离子体产生装置、等离子体处理装置以及无缝辊模具用等离子体蚀刻装置 [P].

田中常治 ;

村上幸平 ;

永安明 .

日本专利 :CN117397369A ,2024-01-12

[10]

等离子体产生装置及等离子体加工设备 [P].

杨靖 ;

刘涛 ;

乐卫平 ;

宋成 ;

张文杰 ;

谢幸光 .

中国专利 :CN222776358U ,2025-04-18

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