等离子体处理方法及等离子体处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201880044714.9

申请日：

2018-06-21

公开(公告)号：

CN110832624B

公开(公告)日：

2024-02-27

发明(设计)人：

菊池亨神保洋介茶谷宏纪西方靖龟崎厚治

申请人：

株式会社爱发科

申请人地址：

日本神奈川县

IPC主分类号：

H01L21/31

IPC分类号：

C23C16/52 H01L21/3065 H05H1/46

代理机构：

北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413

代理人：

袁波;刘继富

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-02-27	授权	授权

共 50 条

[1]

等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P].

菊池亨 ;

神保洋介 ;

茶谷宏纪 ;

西方靖 ;

龟崎厚治 .

中国专利 :CN110832624A ,2020-02-21

[2]

等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P].

三浦繁博 ;

加藤寿 ;

佐藤润 ;

中坪敏行 ;

菊地宏之 .

中国专利 :CN105097459A ,2015-11-25

[3]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

佐藤阳介 ;

宇井明生 ;

林久贵 .

中国专利 :CN105280489A ,2016-01-27

[4]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

药师神弘士 ;

渡边勇人 ;

芝本雅弘 .

中国专利 :CN111328469B ,2020-06-23

[5]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

森本未知数 ;

安井尚辉 ;

大越康雄 .

中国专利 :CN104241071A ,2014-12-24

[6]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

岩井哲博 ;

古川良太 .

中国专利 :CN1175477C ,2002-11-20

[7]

等离子体处理装置、等离子体处理方法 [P].

石川拓 ;

户部康弘 .

中国专利 :CN101622698B ,2010-01-06

[8]

等离子体处理装置、及等离子体处理方法 [P].

吉森大晃 ;

嘉瀬庆久 ;

中泽和辉 .

中国专利 :CN115116813A ,2022-09-27

[9]

等离子体产生装置及等离子体处理装置 [P].

江部明宪 ;

安东靖典 ;

渡边正则 .

中国专利 :CN102027811A ,2011-04-20

[10]

等离子体处理装置与等离子体处理方法 [P].

田口典幸 ;

泽田康志 ;

松永浩一 .

中国专利 :CN1611098A ,2005-04-27

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