包括在紫外区和可见光区中具有低反射的抗反射涂层的光学制品

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201610878563.X

申请日：

2011-12-09

公开(公告)号：

CN106249322A

公开(公告)日：

2016-12-21

发明(设计)人：

H·卡杜 F·德艾瓜维韦斯 O·波菲拉

申请人：

申请人地址：

法国沙朗通勒蓬

IPC主分类号：

G02B1115

IPC分类号：

G02B528 G02C702

代理机构：

北京市中咨律师事务所 11247

代理人：

牛南辉;魏子翔

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-08-17	授权	授权
2017-01-18	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101697773277 IPC(主分类):G02B 1/115 专利申请号:201610878563X 申请日:20111209
2016-12-21	公开	公开
2018-03-20	专利申请权、专利权的转移	专利申请权的转移 IPC(主分类):G02B 1/115 登记生效日:20180301 变更事项:申请人变更前权利人:埃西勒国际通用光学公司变更后权利人:依视路国际公司变更事项:地址变更前权利人:法国沙朗通勒蓬变更后权利人:法国沙朗通勒蓬

共 50 条

[1]

包括在紫外区和可见光区中具有低反射的抗反射涂层的光学制品 [P].

H·卡杜 ;

F·德艾瓜维韦斯 ;

O·波菲拉 .

中国专利 :CN103885100A ,2014-06-25

[2]

包括在紫外区和可见光区中具有低反射的抗反射涂层的光学制品 [P].

H·卡杜 ;

F·德艾瓜维韦斯 ;

O·波菲拉 .

中国专利 :CN103329013B ,2013-09-25

[3]

包括在可见光区具有极低反射的抗反射涂层的光学制品 [P].

I·博利沙科夫 ;

F·德艾瓜维韦斯 .

中国专利 :CN105359005B ,2016-02-24

[4]

在可见光区和近红外区中反射非常低的光学制品 [P].

I·博利沙科夫 ;

W·特罗蒂尔-拉普安特 .

中国专利 :CN115552290A ,2022-12-30

[5]

包括在可见和紫外区内具有极低反射的减反射涂层的光学制品 [P].

I·博利沙科夫 ;

H·莫里 ;

X·丁 .

中国专利 :CN110895358B ,2020-03-20

[6]

包括在可见和紫外区内具有极低反射的减反射涂层的光学制品 [P].

I·博利沙科夫 ;

H·莫里 ;

X·丁 .

中国专利 :CN106461965A ,2017-02-22

[7]

包括在紫外区和可见区内均具有低反射的减反射涂层的光学制品 [P].

I·博利沙科夫 .

中国专利 :CN106662671B ,2017-05-10

[8]

包括在近红外区(NIR)中具有高反射的减反射涂层的光学制品 [P].

X·丁 .

中国专利 :CN109073785B ,2018-12-21

[9]

包括在可见光区域内针对低照度条件的减反射涂层的光学制品 [P].

C·赫费纳 ;

T·施泰因 .

中国专利 :CN113671604A ,2021-11-19

[10]

包括在可见光区域内针对低照度条件的减反射涂层的光学制品 [P].

C·赫费纳 ;

T·施泰因 .

中国专利 :CN107636495A ,2018-01-26

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