在可见光区和近红外区中反射非常低的光学制品

被引:0
申请号
CN202180033257.5
申请日
2021-05-06
公开(公告)号
CN115552290A
公开(公告)日
2022-12-30
发明(设计)人
I·博利沙科夫 W·特罗蒂尔-拉普安特
申请人
申请人地址
法国沙朗通勒蓬
IPC主分类号
G02B1115
IPC分类号
G02B2701
代理机构
北京市中咨律师事务所 11247
代理人
姜利芳;牛南辉
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 43 条
[1]
包括在紫外区和可见光区中具有低反射的抗反射涂层的光学制品 [P]. 
H·卡杜 ;
F·德艾瓜维韦斯 ;
O·波菲拉 .
中国专利 :CN106249322A ,2016-12-21
[2]
包括在紫外区和可见光区中具有低反射的抗反射涂层的光学制品 [P]. 
H·卡杜 ;
F·德艾瓜维韦斯 ;
O·波菲拉 .
中国专利 :CN103885100A ,2014-06-25
[3]
包括在紫外区和可见光区中具有低反射的抗反射涂层的光学制品 [P]. 
H·卡杜 ;
F·德艾瓜维韦斯 ;
O·波菲拉 .
中国专利 :CN103329013B ,2013-09-25
[4]
在近红外区和蓝光区具有高反射的光学制品 [P]. 
X·丁 ;
G·洛 ;
A·R·佩拉约 .
中国专利 :CN109844573B ,2019-06-04
[5]
包括在近红外区(NIR)中具有高反射的减反射涂层的光学制品 [P]. 
X·丁 .
中国专利 :CN109073785B ,2018-12-21
[6]
包括在近红外区(NIR)中具有高反射的干涉涂层的光学制品 [P]. 
丁星兆 .
中国专利 :CN109716173A ,2019-05-03
[7]
包括在可见和紫外区内具有极低反射的减反射涂层的光学制品 [P]. 
I·博利沙科夫 ;
H·莫里 ;
X·丁 .
中国专利 :CN110895358B ,2020-03-20
[8]
包括在可见和紫外区内具有极低反射的减反射涂层的光学制品 [P]. 
I·博利沙科夫 ;
H·莫里 ;
X·丁 .
中国专利 :CN106461965A ,2017-02-22
[9]
包括在可见光区具有极低反射的抗反射涂层的光学制品 [P]. 
I·博利沙科夫 ;
F·德艾瓜维韦斯 .
中国专利 :CN105359005B ,2016-02-24
[10]
包括在紫外区和可见区内均具有低反射的减反射涂层的光学制品 [P]. 
I·博利沙科夫 .
中国专利 :CN106662671B ,2017-05-10