离子注入方法及离子注入装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201610898648.4

申请日：

2016-10-14

公开(公告)号：

CN106920741A

公开(公告)日：

2017-07-04

发明(设计)人：

川崎洋司佐野信塚原一孝

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

H01L21265

IPC分类号：

H01J37317

代理机构：

永新专利商标代理有限公司 72002

代理人：

徐殿军

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-08-10	授权	授权
2017-07-04	公开	公开
2018-06-01	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/265 申请日:20161014

共 50 条

[1]

离子注入方法及离子注入装置 [P].

川崎洋司 ;

佐野信 ;

塚原一孝 .

中国专利 :CN107204271A ,2017-09-26

[2]

离子注入装置及离子注入方法 [P].

河津翔 ;

井门德安 .

中国专利 :CN110137066B ,2019-08-16

[3]

离子注入方法及离子注入装置 [P].

二宫史郎 ;

越智昭浩 ;

木村靖彦 ;

冈本泰治 ;

弓山敏男 .

中国专利 :CN102723252A ,2012-10-10

[4]

离子注入装置及离子注入方法 [P].

松下浩 ;

大北义明 .

中国专利 :CN108987225B ,2018-12-11

[5]

离子注入装置及离子注入方法 [P].

石桥和久 .

中国专利 :CN112349573A ,2021-02-09

[6]

离子注入装置及离子注入方法 [P].

山口干夫 ;

石桥和久 ;

工藤哲也 .

中国专利 :CN114914141A ,2022-08-16

[7]

离子注入装置及离子注入方法 [P].

椛泽光昭 ;

石川雅基 ;

上野勇介 .

中国专利 :CN105023821B ,2015-11-04

[8]

离子注入装置及离子注入方法 [P].

月原光国 .

中国专利 :CN115020175A ,2022-09-06

[9]

离子注入装置及离子注入方法 [P].

黄家明 .

中国专利 :CN113571402A ,2021-10-29

[10]

离子注入装置及离子注入方法 [P].

筱塚正光 .

日本专利 :CN120266251A ,2025-07-04

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