发明(设计)人:
朱永伟
云乃彰
沈茂松
陈安骏
吴冰洁
申请人地址:
210016江苏省南京市御道街29号
法律状态
| 2006-10-25 |
实质审查的生效
| 实质审查的生效 |
| 2008-11-26 |
发明专利申请公布后的视为撤回
| 发明专利申请公布后的视为撤回 |
| 2006-08-30 |
公开
| 公开 |
共 50 条
[5]
超声气膜屏蔽微细电解加工装置
[P].
商勇超
论文数: 0 引用数: 0
h-index: 0
机构:
浙江工业大学
浙江工业大学
商勇超
;
中国专利 :CN109794659B ,2024-12-20 [8]
超声协同气膜屏蔽辅助微细电解的加工方法及装置
[P].
商勇超
论文数: 0 引用数: 0
h-index: 0
机构:
浙江工业大学
浙江工业大学
商勇超
;
中国专利 :CN110076403B ,2024-12-17