一种氧化铈制备方法及含有该氧化铈的CMP抛光液

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201611231305.9

申请日：

2016-12-28

公开(公告)号：

CN108249469A

公开(公告)日：

2018-07-06

发明(设计)人：

尹先升贾长征王雨春李守田

申请人：

申请人地址：

201201 上海市浦东新区华东路5001号金桥出口加工区（南区）T6-9幢底层

IPC主分类号：

C01F1700

IPC分类号：

C09G102

代理机构：

北京大成律师事务所 11352

代理人：

李佳铭;沈汶波

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-01-03	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C01F 17/00 申请日:20161228
2018-07-06	公开	公开

共 50 条

[1]

一种氧化铈制备方法及含有该氧化铈磨料的CMP抛光液 [P].

尹先升 ;

贾长征 ;

房庆华 ;

周仁杰 ;

王雨春 .

中国专利 :CN105800660A ,2016-07-27

[2]

一种氧化铈抛光液及制备和应用 [P].

王峰 ;

张志鑫 ;

王业红 ;

石振 .

中国专利 :CN118027819A ,2024-05-14

[3]

氧化铈抛光液及其制备方法 [P].

胡群 ;

李晓佩 ;

岳帅军 ;

张振宇 ;

范娜 ;

赵枫 ;

崔燕英 ;

赵思远 ;

周红秀 ;

刘杨 .

中国专利 :CN120924167A ,2025-11-11

[4]

一种氢氧化铈和氧化铈抛光液及制备和应用 [P].

王峰 ;

张志鑫 ;

王业红 ;

石振 .

中国专利 :CN117987013A ,2024-05-07

[5]

一种氧化铈抛光液 [P].

王溯 ;

蒋闯 ;

史筱超 ;

秦长春 .

中国专利 :CN120230481A ,2025-07-01

[6]

一种氧化铈抛光液的制备方法 [P].

王溯 ;

蒋闯 ;

李泽宇 .

中国专利 :CN120230482A ,2025-07-01

[7]

一种氧化铈抛光液的制备方法 [P].

熊长新 ;

许修宇 ;

何侃 .

中国专利 :CN117887356A ,2024-04-16

[8]

一种氧化铈的制备方法、一种氧化铈及一种化学机械抛光液 [P].

杨磊 ;

尹先升 ;

王振新 ;

马壮 ;

陈宇 .

中国专利 :CN120247079A ,2025-07-04

[9]

氧化铈浆料、氧化铈抛光液以及使用其抛光衬底的方法 [P].

榎本和宏 ;

吉川茂 .

中国专利 :CN101291778A ,2008-10-22

[10]

一种氧化铈抛光液及其制备方法 [P].

李永双 .

中国专利 :CN105086836A ,2015-11-25

← 1 2 3 4 5 →