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一种提供受热均匀性的单晶体生产烧结炉
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN201921283844.6
申请日
:
2019-08-09
公开(公告)号
:
CN210314569U
公开(公告)日
:
2020-04-14
发明(设计)人
:
林志高
申请人
:
申请人地址
:
352300 福建省宁德市屏南县溪坪工业区
IPC主分类号
:
C30B3500
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-04-14
授权
授权
2022-07-19
专利权的终止
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C30B 35/00 申请日:20190809 授权公告日:20200414 终止日期:20210809
共 50 条
[1]
一种提供受热均匀性的单晶体生产烧结炉
[P].
胡山
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
胡山
.
中国专利
:CN214244675U
,2021-09-21
[2]
一种单晶体生产用烧结炉
[P].
林志高
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
林志高
.
中国专利
:CN204825116U
,2015-12-02
[3]
一种单晶体生产用烧结炉
[P].
许广艳
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
杭州弘泰电气有限公司
杭州弘泰电气有限公司
许广艳
;
沈一峰
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
杭州弘泰电气有限公司
杭州弘泰电气有限公司
沈一峰
;
任倚诚
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
杭州弘泰电气有限公司
杭州弘泰电气有限公司
任倚诚
;
叶子忻
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
杭州弘泰电气有限公司
杭州弘泰电气有限公司
叶子忻
.
中国专利
:CN120210930A
,2025-06-27
[4]
一种单晶体制备烧结炉
[P].
林志高
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
林志高
.
中国专利
:CN204825138U
,2015-12-02
[5]
一种温度可控的单晶体生产用烧结炉
[P].
林志高
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
林志高
.
中国专利
:CN210314556U
,2020-04-14
[6]
一种高效单晶体生产用烧结炉冷却装置
[P].
林志高
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
林志高
.
中国专利
:CN210314571U
,2020-04-14
[7]
受热均匀的烧结炉
[P].
季红亮
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
季红亮
.
中国专利
:CN206200122U
,2017-05-31
[8]
一种高效单晶体生产用烧结炉冷却装置
[P].
范晓鹏
论文数:
0
引用数:
0
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0
范晓鹏
.
中国专利
:CN215856439U
,2022-02-18
[9]
一种受热均匀的义齿加工烧结炉
[P].
袁秀娟
论文数:
0
引用数:
0
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0
袁秀娟
.
中国专利
:CN213238464U
,2021-05-18
[10]
一种受热均匀的陶瓷筷生产用烧结炉
[P].
聂长清
论文数:
0
引用数:
0
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聂长清
;
聂霖焘
论文数:
0
引用数:
0
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0
聂霖焘
.
中国专利
:CN213020967U
,2021-04-20
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