一种提供受热均匀性的单晶体生产烧结炉

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN202022846964.1
申请日
2020-12-01
公开(公告)号
CN214244675U
公开(公告)日
2021-09-21
发明(设计)人
胡山
申请人
申请人地址
620300 四川省眉山市洪雅县余坪镇福宝村五组
IPC主分类号
C30B3500
IPC分类号
F26B1104 F26B2300 F26B2516
代理机构
成都明涛智创专利代理有限公司 51289
代理人
毕雅凤
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
一种提供受热均匀性的单晶体生产烧结炉 [P]. 
林志高 .
中国专利 :CN210314569U ,2020-04-14
[2]
一种单晶体生产用烧结炉 [P]. 
林志高 .
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[3]
一种单晶体生产用烧结炉 [P]. 
许广艳 ;
沈一峰 ;
任倚诚 ;
叶子忻 .
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[4]
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林志高 .
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[5]
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林志高 .
中国专利 :CN210314556U ,2020-04-14
[6]
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林志高 .
中国专利 :CN210314571U ,2020-04-14
[7]
受热均匀的烧结炉 [P]. 
季红亮 .
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[8]
一种高效单晶体生产用烧结炉冷却装置 [P]. 
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[9]
一种受热均匀的陶瓷筷生产用烧结炉 [P]. 
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[10]
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