离子束抛光设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201520408818.7

申请日：

2015-06-12

公开(公告)号：

CN204771859U

公开(公告)日：

2015-11-18

发明(设计)人：

吴丽翔邱克强曾思为付绍军

申请人：

申请人地址：

230026 安徽省合肥市包河区金寨路96号

IPC主分类号：

B24B100

IPC分类号：

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

曹玲柱

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-11-18	授权	授权
2022-05-27	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B24B 1/00 申请日:20150612 授权公告日:20151118 终止日期:20210612

共 50 条

[1]

离子束抛光设备及应用其的离子束抛光方法 [P].

吴丽翔 ;

邱克强 ;

曾思为 ;

付绍军 .

中国专利 :CN104907894A ,2015-09-16

[2]

一种离子束抛光设备 [P].

常洪兴 ;

徐胜 .

中国专利 :CN210549947U ,2020-05-19

[3]

一种离子束抛光装备 [P].

张松林 .

中国专利 :CN222767939U ,2025-04-18

[4]

一种新型离子束抛光机 [P].

施春燕 .

中国专利 :CN211414576U ,2020-09-04

[5]

一种离子束抛光装置 [P].

黄贺 ;

张瀛怀 ;

房圣桃 ;

李鑫 ;

梁棋翔 ;

张健 ;

叶铭堃 .

中国专利 :CN119238225A ,2025-01-03

[6]

一种离子束抛光机的可调支撑结构及离子束抛光机 [P].

李文坚 .

中国专利 :CN117484387B ,2024-04-09

[7]

一种离子束抛光机的可调支撑结构及离子束抛光机 [P].

李文坚 .

中国专利 :CN117484387A ,2024-02-02

[8]

高陡度镜面的离子束抛光方法 [P].

廖文林 ;

戴一帆 ;

周林 ;

陈善勇 ;

解旭辉 ;

郑子文 .

中国专利 :CN101898324B ,2010-12-01

[9]

具有稳定工作状态的离子束抛光机 [P].

倪磊 ;

倪晋 .

中国专利 :CN207139439U ,2018-03-27

[10]

一种低清理频率的高效离子束抛光设备 [P].

倪磊 ;

倪晋 .

中国专利 :CN207223557U ,2018-04-13

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