一种离子束抛光装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411770004.8

申请日：

2024-12-04

公开(公告)号：

CN119238225A

公开(公告)日：

2025-01-03

发明(设计)人：

黄贺张瀛怀房圣桃李鑫梁棋翔张健叶铭堃

申请人：

季华实验室

申请人地址：

528200 广东省佛山市南海区桂城街道环岛南路28号

IPC主分类号：

B24B1/00

IPC分类号：

B24B13/00 B24B13/005 B24B55/00

代理机构：

北京开阳星知识产权代理有限公司 11710

代理人：

姚金金

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-01-21	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):B24B 1/00申请日:20241204
2025-11-14	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回IPC(主分类):B24B 1/00申请公布日:20250103
2025-01-03	公开	公开

共 50 条

[1]

离子束抛光设备 [P].

吴丽翔 ;

邱克强 ;

曾思为 ;

付绍军 .

中国专利 :CN204771859U ,2015-11-18

[2]

离子束抛光设备及应用其的离子束抛光方法 [P].

吴丽翔 ;

邱克强 ;

曾思为 ;

付绍军 .

中国专利 :CN104907894A ,2015-09-16

[3]

一种离子束抛光装备 [P].

张松林 .

中国专利 :CN222767939U ,2025-04-18

[4]

一种离子束抛光设备 [P].

常洪兴 ;

徐胜 .

中国专利 :CN210549947U ,2020-05-19

[5]

一种离子束抛光机的可调支撑结构及离子束抛光机 [P].

李文坚 .

中国专利 :CN117484387B ,2024-04-09

[6]

一种离子束抛光机的可调支撑结构及离子束抛光机 [P].

李文坚 .

中国专利 :CN117484387A ,2024-02-02

[7]

一种非球面离子束抛光方法 [P].

陈智利 ;

刘卫国 ;

惠迎雪 ;

周顺 ;

张进 ;

陈鹏 .

中国专利 :CN114273986A ,2022-04-05

[8]

一种新型离子束抛光机 [P].

施春燕 .

中国专利 :CN211414576U ,2020-09-04

[9]

一种光学元件离子束抛光加工装置 [P].

黄智 ;

张伟文 ;

杨兴 ;

贾卫博 ;

闵杰 ;

陈贵科 .

中国专利 :CN113695991A ,2021-11-26

[10]

一种高稳定性离子束抛光装置 [P].

倪磊 ;

倪晋 .

中国专利 :CN107470991B ,2017-12-15

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