真空处理设备、控制真空处理设备的方法及器件制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200910126498.5

申请日：

2009-03-13

公开(公告)号：

CN101532582A

公开(公告)日：

2009-09-16

发明(设计)人：

白井泰幸

申请人：

申请人地址：

日本神奈川

IPC主分类号：

F16K2400

IPC分类号：

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

柴毅敏

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-05-09	授权	授权
2009-09-16	公开	公开
2009-11-11	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

真空处理设备及真空处理设备的控制方法 [P].

张波 ;

余龙 ;

耿生煌 .

中国专利 :CN119121164A ,2024-12-13

[2]

真空处理设备和真空处理方法 [P].

J·拉姆 ;

B·威德里格 ;

S·卡塞曼 ;

M·D·皮门塔 ;

O·马斯勒 ;

B·汉塞尔曼 .

中国专利 :CN101743338A ,2010-06-16

[3]

真空处理设备和真空处理方法 [P].

佐长谷肇 ;

渡边直树 ;

徐舸 .

中国专利 :CN102191480A ,2011-09-21

[4]

真空处理设备、真空处理方法和电子装置制造方法 [P].

山本一 ;

今井洋之 .

中国专利 :CN102047406A ,2011-05-04

[5]

真空处理设备、真空处理方法、电子装置及其制造方法 [P].

吉冈胜也 .

中国专利 :CN101567311A ,2009-10-28

[6]

真空处理设备和真空处理衬底的方法 [P].

M·布莱斯 ;

T·纳蒂格 .

中国专利 :CN112789717A ,2021-05-11

[7]

真空处理设备和用于真空处理基底的方法 [P].

S.施维恩-托伊 ;

R.戈德 ;

M.彻西尤克 ;

M.帕德伦 .

中国专利 :CN107923037A ,2018-04-17

[8]

真空处理设备和制造方法 [P].

B.肖特范马斯特 ;

W.里伊茨勒 ;

R.洛德 ;

R.巴滋伦 ;

D.罗雷尔 .

中国专利 :CN103299413A ,2013-09-11

[9]

真空处理设备 [P].

约亨·克劳瑟 .

中国专利 :CN204644463U ,2015-09-16

[10]

真空处理设备 [P].

芦成 .

中国专利 :CN309314458S ,2025-05-30

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