真空处理设备、真空处理方法、电子装置及其制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200910136914.X

申请日：

2009-04-24

公开(公告)号：

CN101567311A

公开(公告)日：

2009-10-28

发明(设计)人：

吉冈胜也

申请人：

申请人地址：

日本神奈川

IPC主分类号：

H01L2100

IPC分类号：

H01L21677 H01L2102

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

张涛

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-10-28	公开	公开
2011-07-13	授权	授权
2009-12-23	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

真空处理设备、真空处理方法和电子装置制造方法 [P].

山本一 ;

今井洋之 .

中国专利 :CN102047406A ,2011-05-04

[2]

真空处理设备和真空处理方法 [P].

佐长谷肇 ;

渡边直树 ;

徐舸 .

中国专利 :CN102191480A ,2011-09-21

[3]

真空处理设备和真空处理方法 [P].

J·拉姆 ;

B·威德里格 ;

S·卡塞曼 ;

M·D·皮门塔 ;

O·马斯勒 ;

B·汉塞尔曼 .

中国专利 :CN101743338A ,2010-06-16

[4]

真空处理设备、使用该真空处理设备制造图像显示设备的方法以及由该真空处理设备制造的电子装置 [P].

井上雅人 ;

松井绅 ;

姬路俊明 .

中国专利 :CN101790597A ,2010-07-28

[5]

真空处理设备和真空处理衬底的方法 [P].

M·布莱斯 ;

T·纳蒂格 .

中国专利 :CN112789717A ,2021-05-11

[6]

真空处理设备、控制真空处理设备的方法及器件制造方法 [P].

白井泰幸 .

中国专利 :CN101532582A ,2009-09-16

[7]

真空处理装置、真空处理方法 [P].

饭岛荣一 ;

池田裕人 ;

箱守宗人 .

中国专利 :CN102112646A ,2011-06-29

[8]

真空处理设备及真空处理设备的控制方法 [P].

张波 ;

余龙 ;

耿生煌 .

中国专利 :CN119121164A ,2024-12-13

[9]

真空处理设备和制造方法 [P].

B.肖特范马斯特 ;

W.里伊茨勒 ;

R.洛德 ;

R.巴滋伦 ;

D.罗雷尔 .

中国专利 :CN103299413A ,2013-09-11

[10]

真空处理设备 [P].

约亨·克劳瑟 .

中国专利 :CN204644463U ,2015-09-16

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