用于制造光学元件的装置和方法、光学元件和成像装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201010106304.8

申请日：

2010-01-29

公开(公告)号：

CN101791836B

公开(公告)日：

2010-08-04

发明(设计)人：

安藤正树

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

B29C4318

IPC分类号：

B29C4336 G02B110 B29L1100

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

马高平

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-09-22	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101006072135 IPC(主分类):B29C 43/18 专利申请号:2010101063048 申请日:20100129
2017-03-22	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101708964878 IPC(主分类):B29C 43/18 专利号:ZL2010101063048 申请日:20100129 授权公告日:20130626 终止日期:20160129
2013-06-26	授权	授权
2010-08-04	公开	公开

共 50 条

[1]

光学元件的制造方法、光学元件和用于制造光学元件的装置 [P].

米哈伊尔·埃尔德马尼斯 .

中国专利 :CN115698779A ,2023-02-03

[2]

光学元件、光学装置和用于制造光学元件的方法 [P].

古贺一恕 .

日本专利 :CN118550012A ,2024-08-27

[3]

光学元件、光学装置和成像装置 [P].

八岛久美子 .

中国专利 :CN110109225A ,2019-08-09

[4]

光学元件、光学元件的制造方法和光学装置 [P].

平田浩二 ;

峰邑浩行 ;

安斋由美子 ;

西田哲也 ;

山本治朗 ;

小藤直行 ;

池田英博 ;

木村展之 .

中国专利 :CN104395785B ,2015-03-04

[5]

光学元件和成像装置 [P].

大石忠宏 ;

田中敬太 ;

安藤正树 ;

田中和洋 .

中国专利 :CN101046554A ,2007-10-03

[6]

光学元件和成像装置 [P].

高塚进 ;

井手直纪 ;

上野比吕至 ;

铁川弘树 .

日本专利 :CN120814242A ,2025-10-17

[7]

光学元件和成像装置 [P].

光田幸宽 ;

佐野幸广 ;

海部敬太 ;

田中和洋 .

中国专利 :CN101685172A ,2010-03-31

[8]

光学元件和成像装置 [P].

高塚进 ;

井手直纪 ;

上野比吕至 ;

铁川弘树 .

日本专利 :CN120937381A ,2025-11-11

[9]

光学膜、光学元件和成像装置 [P].

高铜浩 ;

洪敬奇 ;

李荣旼 ;

许斗宁 ;

尹苏罗 ;

金善国 ;

金志原 .

中国专利 :CN111051936B ,2020-04-21

[10]

光学元件制造装置的控制方法、光学元件的制造方法和光学元件制造装置 [P].

广濑生典 .

中国专利 :CN108137366A ,2018-06-08

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